挑戰三星、SK 海力士市場地位,美光開始規劃導入 EUV 曝光設備 作者 Atkinson | 發布日期 2021 年 07 月 03 日 10:00 | 分類 晶片 , 會員專區 , 材料、設備 | edit 就在之前包括三星、SK 海力士等南韓記憶體大廠開始啟用 EUV 曝光設備進行記憶體的生產之後,現在美商美光科技現在準備也要加入採用 EUV 曝光設備的生產行列了。根據日前美光在財報會議上所說的,目前美光正跟 EUV 曝光大廠 ASML 展開採購談判工作,預計 2024 年將開始生產採用 EUV 曝光設備所生產記憶體。 從這裡可透過《Google 新聞》追蹤 TechNews 科技新知,時時更新 科技新報粉絲團 加入好友 訂閱免費電子報 關鍵字: ASML , SK 海力士 , 三星 , 半導體 , 曝光機 , 美光 , 記憶體