為了追趕差距，三星也仿效台積電自行開發 EUV 護膜

南韓媒體報導，三星開始開發極紫外光 (EUV) 護膜，以縮小與對手台積電的市占差距。

光罩護膜是極紫外光 (EUV) 微影曝光時的關鍵零件，在光罩加裝一層護膜，機器在上面繪製要刻上晶圓的電路，以免光罩受空氣微塵或揮發性氣體污染，同時減少光罩損壞率。主要供應商是荷蘭 ASML、日本三井化學和南韓 S&S Tech。

三星 Foundry Forum 2021 就宣佈要自研 EUV 護膜，2023 年初開發透光率達 88% 的 EUV 護膜。照三星說法，EUV 護膜應已量產，有助達成供應鏈多元化和穩定。不過三星要繼續開發，因 88% 透光率護膜並不是品質最好的產品。

韓媒 BusinessKorea 報導，三星半導體研究所近期徵才啟事顯示三星積極開發透光率 92% 的 EUV 護膜。市場也有透光率達 90% 以上 EUV 護膜，一是 ASML，另一家是 S&S Tech，後者 2021 年成功開發透光率為 90% 的 EUV 護膜。

三星也開始研究下一代 High-NA EUV 護膜，將採用新材料，也將與外部機構合作，開發評估碳奈米管和石墨烯製 EUV 護膜。三星也會推動自行開發的奈米石墨薄膜大量生產設施設計。

而台積電從 2019 年開始，就使用自行開發的 EUV 護膜，且 2021 年宣布產能比 2019 年提高 20 倍。市場人士表示，三星推動 EUV 護膜開發，就是為了追上台積電。

(首圖來源：ASML)