隨著人工智慧（AI）浪潮帶動了半導體產業的發展，投資機構對 ASML 產品的長期需求仍保持樂觀，因為這些 AI 半導體普遍採用最新的半導體製造技術。雖然不少半導體製造商都延後引入新一代 High-NA EUV。但是從整體來看，市場對曝光設備的需求仍處於上升趨勢。
根據外媒Techpowerup報導，近日ASML表示，根據目前的訂單資訊和需求，預計2027年將交付10套High-NA EUV和56套EUV曝光機。其中，英特爾和三星最近都提高了曝光機的訂單量，英特爾將High-NA EUV的訂購數量從1套提高到2套，EUV的訂購數量從3套提高到5套，另外三星也將EUV的訂購數量從原本的5套提高到7套。
值得注意的還有SK海力士，2027年ASML要交付的EUV曝光機裡占了20套的數量，同時也將High-NA EUV的訂購數量從1套提高到2套。此外，傳聞SK海力士計畫在未來兩年內安裝好20套EUV曝光機，全部是為了HBM及先進存儲解決方案所採購的。
雖然英特爾很可能是首個在量產過程中導入High-NA EUV曝光技術的半導體製造商。不過，三星和SK海力士正在迎頭趕上。特別是SK海力士，以目前的產能擴張速度，預計將需要更多的廠房，以為準備安裝曝光機留下足夠的空間。
(首圖來源：imec 提供)
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