Fractilia 全新隨機性誤差量測，協助晶圓廠 EUV 因應數十億美元損失

適用於先進半導體製造的隨機性（stochastics）微影圖案誤差量測與控制解決方案業者Fractilia，3/29 宣布推出最新版本的 Fractilia 自動化量測平台（FAME），讓半導體晶圓廠得以管控因受到隨機性誤差影響甚鉅的極紫外光微影（EUV）製程所產生的良率問題，而這項挑戰損失的金額可達數十億美元。