中國科學技術協會（CAST）最近列出中國半導體產業面臨的挑戰，但沒列到曝光技術。業界認為，排除曝光技術更像政治考量，以淡化美國制裁對中國本土晶片製造業的影響，而不是讓中國曝光設備創新。 繼續閱讀..
因政治考量淡化重要性！中國半導體自主挑戰清單「未列曝光機」 |
作者
林 妤柔|發布日期
2024 年 07 月 09 日 10:50 |
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Tag Archives: 曝光設備
ASML 預計在台招募 600 位工程人才，創新體驗車將巡迴校園 |
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作者
Atkinson|發布日期
2021 年 03 月 10 日 15:15 |
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繼日前晶圓代工龍頭台積電宣布 2021 年開始招募新進員工之後，因應業務擴展，並看好台灣半導體人才實力，全球最大半導體設備商的 ASML（台灣艾司摩爾）宣布在台啟動大規模徵才計畫，將於 10 日起展開全台校園徵才活動，目標在 2021 年在台招募 600 位工程人才。另外，為了讓新鮮人更認識 ASML 的先進微影技術和獨家 EUV 極紫外光微影設備，ASML在 2021 年特別打造 「ASML 創新體驗車」 於三、四月巡迴全台各大校園，透過 AR （擴增實境）互動體驗，解密 「EUV 極紫外光微影設備」 的關鍵創新技術。
不受摩爾定律限制，ASML 開始設計 1 奈米製程曝光設備 |
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作者
Atkinson|發布日期
2020 年 12 月 01 日 6:00 |
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根據外媒報導，日前在日本東京舉行了 ITF（IMEC Technology Forum,. ITF）論壇。在論壇上，與荷蘭商半導體大廠艾司摩爾（ASML）合作研發半導體曝光機的比利時半導體研究機構 IMEC 正式公布了 3 奈米及以下製程的在微縮層面的相關技術細節。根據其所公布的內容來分析，ASML 對於 3 奈米、2 奈米、1.5 奈米、1 奈米，甚至是小於 1 奈米的製程都做了清楚的發展規劃，代表著 ASML 基本上已經能開發 1 奈米製程的曝光設備了。
