台積電積極展開全球布局，不僅在美國亞利桑那州建 5 奈米廠，今年還將在日本設材料研發中心。法人認為，台積電的布局既可順應地緣政治，並可善用各地資源強化競爭力。
台積電布局全球，法人：善用各地資源強化競爭力 |
作者
中央社|發布日期
2021 年 06 月 14 日 11:24 |
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Tag Archives: 台積電
ASML 第二代 EUV 曝光機開發傳瓶頸，神隊友救援力拚原時程問世 |
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作者
Atkinson|發布日期
2021 年 06 月 10 日 14:00 |
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極紫外光曝光機（EUV）目前是先進半導體製程，不論 DRAM 或晶圓代工生產提升效能的關鍵。荷蘭商艾司摩爾（ASML）是全球唯一量產 EUV 曝光機的廠商，台積電、三星、英特爾先進製程都依賴 EUV 曝光機生產。現階段每台曝光機單價將近 1.5 億美元，但 ASML 的 EUV 曝光機目前出貨都是光源波長 13.5 奈米左右的第一代產品，物鏡 NA 數孔徑是 0.33，據 ASML 表示，第二代 EUV 曝光機已進入開發階段。
