Tag Archives: 設備

艾司摩爾 2017 年第 16 次登半導體微影設備龍頭,預計積極增產

作者 |發布日期 2018 年 02 月 13 日 17:30 |
分類 國際貿易 , 奈米 , 材料、設備

根據美國研究調查機構 De Information Network 的研究資料顯示,2017 年全球半導體光刻設備,荷蘭商艾司摩爾 (ASML) 仍以 85% 的市占率穩居龍頭,其次是日本廠商尼康 (Nikon) 的 10.3%,以及佳能 (Canon) 的 4.3%。這樣的市占率表現讓 ASML 連續 16 年穩居市場第一的寶座。

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艾司摩爾 EUV 設備生產不順,原因是卡爾蔡司鏡頭供應不足

作者 |發布日期 2017 年 10 月 12 日 17:55 |
分類 GPU , 國際貿易 , 晶片

目前半導體製程已微縮到 10 奈米以下,大家都寄望藉由極紫外光微影設備(EUV)協助製程向前發展,也使摩爾定律(Moore’s Law)再往下延伸。不過就目前生產 EUV 設備的艾司摩爾(ASML)來說,因為製造難度,已積壓了大量訂單在手上。有國外媒體指出,艾司摩爾 EUV 設備生產不順的主因,就是來自光學鏡頭供應商蔡司(Carl Zeiss)供貨進度跟不上需求所致。

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搶攻先進半導體製程商機,科磊宣布推出 5 種顯影控制系統

作者 |發布日期 2017 年 09 月 12 日 18:37 |
分類 晶片 , 處理器 , 記憶體

為爭取新世代先進半導體製程商機,半導體檢測大廠美商科磊(KLA-Tencor)公司於 12 日宣布,針對 7 奈米以下的邏輯和記憶體設計節點,推出 5 款顯影成型控制系統,幫助晶片製造商實現多重曝光技術和極紫外線(EUV)微影所需的嚴格製程公差。

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2016 年全球半導體設備出貨金額 412.4 億美元,台灣連 5 年為最大市場

作者 |發布日期 2017 年 03 月 14 日 16:00 |
分類 國際貿易 , 材料、設備 , 財經

SEMI(國際半導體產業協會)14日公布最新 「全球半導體設備市場統計報告」。報告中指出,2016 年受惠於全球半導體產業暢旺的影響,半導體製造設備銷售金額總計 412.4 億美元,較 2015 年成長 13%。至於,2016 年整體半導體設備訂單得金額,則較 2015 年提升 24% 的水準。

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宣布減資再一家 ! 震旦行宣布減資 30%,每股將退還股東 3 元

作者 |發布日期 2017 年 03 月 07 日 19:30 |
分類 國際貿易 , 自動化 , 財經

近期科技廠減資風潮再起,從系統整合大廠敦陽科技開始,之後還有被動元件龍頭國巨、利基型記憶體大廠旺宏,7 日晚間辦公 OA 設備大廠震旦行也加入減資企業的行業。震旦行在 7 日晚間召開重大訊息記者會,宣布在董事會的決議下,擬辦理現金減資,減資幅度為 30%,減資金額為新台幣 10.12 億元,每股將退還股東現金 3 元。

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