ASML 依計畫年底推出首款 High NA EUV 微影曝光設備
作者 | 發布日期 2023 年 09 月 06 日 15:40 | 分類 半導體 , 會員專區 , 材料、設備 line share Linkedin share follow us in feedly line share
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ASML 依計畫年底推出首款 High NA EUV 微影曝光設備

路透社報導，荷蘭半導體設備製造商艾司摩爾 (ASML) 執行長 Peter Wennink 表示，儘管有些供應商阻礙，但年底將照計畫，推出下一世代產品線首款產品。

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