應用材料(Applied Materials)於週四(20 日)展示最新檢測設備 SEMVision H20,該系統運用兩項重大創新,能以極高的精確度分類缺陷,並提供結果的速度比現今最先進技術快 3 倍。
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應材展示最新晶片檢測設備,適用 2 奈米以下先進晶片、高密度 DRAM |
| 作者 林 妤柔|發布日期 2025 年 02 月 21 日 16:52 | 分類 半導體 , 晶片 , 材料、設備 |



