汽車零組件供應商急於尋求中國對安世半導體晶片的出口限制豁免,希望以政治途徑解決這場已經引發汽車產業停產恐慌的貿易僵局。 繼續閱讀..
安世半導體僵局,德國汽車零件大廠搶辦中國出口豁免 |
| 作者 中央社|發布日期 2025 年 11 月 04 日 18:00 | 分類 國際貿易 , 晶片 , 汽車科技 |
半導體製程 EUV 王朝難撼動,Canon 力推奈米壓印都推不倒 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2025 年 11 月 04 日 12:30 | 分類 半導體 , 材料、設備 | edit |
在半導體製造的最前線,曝光微影技術一直是決定晶片性能與製程節點演進的關鍵瓶頸。荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾 (ASML) 憑藉深紫外光(DUV)與極紫外光(EUV)兔光機,建立起幾乎無可撼動的市場地位。然而,日本光學大廠佳能(Canon)正嘗試以另一條路徑突圍,那就是奈米壓印 (Nanoimprint Lithography,NIL)。這項被視為「非光學」的新型圖案轉印技術,正被佳能定位為下一代晶片製程的潛在顛覆者。
