據外媒 Tom’s Hardware 報導,沖繩科技技術大學院大學(OIST)研究團隊提出全新、大幅簡化的 EUV 曝光設備,價格比 ASML 設備便宜,若能投入量產,有望重塑晶片製造設備產業、甚至整個半導體業。 繼續閱讀..
日本學者開發簡化版 EUV 曝光設備,大幅降低晶片製造成本 |
| 作者 林 妤柔|發布日期 2024 年 08 月 07 日 16:24 | 分類 半導體 , 晶圓 , 材料、設備 |



