美中貿易戰持續緊張,荷蘭宣布 9 月 7 日起,適用先進半導體製造設備的國家出口管制措施擴大,艾司摩爾(ASML)1970i 和 1980i 浸潤式微影系統深紫外光曝光機(DUV)受影響,中國商務部今日重批美國「脅迫個別國家」。
荷蘭擴大半導體曝光機出口管制!中國重批美國「脅迫個別國家」 |
| 作者 姚 惠茹|發布日期 2024 年 09 月 09 日 8:22 | 分類 半導體 , 國際貿易 , 材料、設備 |



