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Tag Archives: 艾司摩爾
中芯國際周子學：EUV 出口問題解決，當前緊盯 ASML 落實產品出口 |
作者
Atkinson|發布日期
2019 年 12 月 10 日 8:00 |
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日前，外媒曾經報導，因為受限於美中貿易戰的情勢，全球最大半導體光刻設備供應商艾司摩爾（ASML）停止了對中國最大晶圓代工商中芯國際的極紫外光刻設備（EUV）出貨。此事不但造成業界震撼，還導致中芯國際的股價重挫。但 ASML 隨即發出聲明表示，公司並非停止出口設備給中芯國際，而是等在出口許可中。而整件事情發生至今，中芯國際董事長周子學在日前指出，目前 ASML 的 EUV 出口許可問題已經解決，但仍將嚴密觀察 ASML 是否將很快實際供應 EUV 設備。
台積電史上最高資本支出，ASML 成半導體軍備賽最大贏家 |
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作者
財訊|發布日期
2019 年 11 月 03 日 0:00 |
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台積電在 10 月 17 日召開的第 3 季法說會上，宣布上調資本支出 40 億元，由原先的 100~110 億美元，大幅上調至 140~150 億美元，創下台積電單年資本支出的新高紀錄。 繼續閱讀..
ASML 第 3 季 EUV 訂單創單季新高，預估第 4 季將季成長 30% |
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作者
Atkinson|發布日期
2019 年 10 月 16 日 16:45 |
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全球半導體微影技術領導廠商艾司摩爾（ASML）16 日發布 2019 年第 3 季財報。根據財報顯示，ASML 在 2019 年第 3 季銷售淨額（net sales）為 30 億歐元（約新台幣 1,032.6 億元），淨收入（net income）為 6.27 億歐元 (約新台幣 215.81 億元），毛利率（gross margin）43.7%。預估 2019 年第 4 季銷售淨額則將落在約 39 億歐元上下，較第 3 季成長 30%，毛利率約為 48% 到 49%。
新一代 High-NA EUV 設備，艾司摩爾預計 2025 年量產 |
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作者
Atkinson|發布日期
2019 年 07 月 01 日 15:15 |
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當前半導體製程微縮到 10 奈米節點以下，包括開始採用的 7 奈米製程，以及未來 5 奈米、3 奈米甚至 2 奈米製程，EUV 極紫外光光刻技術已成為不可或缺的設備。藉由 EUV 設備導入，不僅加快生產效率、提升良率，還能降低成本，使不僅晶圓代工業者積極導入，連 DRAM 記憶體的生產廠商也考慮引進。為了因應製程微縮的市場需求，全球主要生產 EUV 設備的廠商艾司摩爾（ASML）正積極開發下一代 EUV 設備，就是 High-NA（高數值孔徑）EUV 產品，預計幾年內就能正式量產。
晶片設備商艾司摩爾首季財報讚，台灣躍居最大市場 |
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作者
MoneyDJ|發布日期
2019 年 04 月 17 日 16:30 |
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歐洲最大半導體設備供應商艾司摩爾（ASML Holding NV）17 日發表 2019 年第 1 季（至 2019 年 3 月 31 日）財報：營收年減 2.5% 季減 29.1% 至 22.291 億歐元，優於 3 個月前預期的 21.0 億歐元；毛利率報 41.6%，低於 2018 年第 4 季的 44.3% 及 2018 年第 1 季的 48.7%，但高於 3 個月前預期的 40%；純益年減 34.2% 季減 55% 至 3.55 億歐元；淨訂單金額季減 11.9% 至 13.99 億歐元。根據 Thomson Reuters 調查，分析師預期艾司摩爾第 1 季營收、純益各為 21.2 億歐元、1.97 億歐元。 繼續閱讀..
