Tag Archives: 洩密

韓國檢方抓到前三星員工向中國長鑫存儲洩漏先進 DRAM 製程秘密

作者 |發布日期 2025 年 12 月 23 日 21:30 | 分類 IC 設計 , Samsung , 中國觀察

韓國半導體產業正面臨嚴峻的人才與技術流失危機。根據 wccftech 的報導,韓國三星的前員工正迅速成為技術「篩子」,透過一系列精心策劃的知識產權洩漏行為,讓中國的記憶體廠長鑫存儲(CXMT)得以獲取關鍵的半導體技術。首爾中央地方檢察廳資訊技術犯罪調查部近日採取行動,逮捕了長鑫存儲的一名現任董事及另外四名員工,理由是他們涉嫌違反《工業技術保護法》。

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外資指檢方起訴 TEL 台灣子公司衝擊可控,還解除市場疑慮給優於大盤評價

作者 |發布日期 2025 年 12 月 04 日 16:00 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片

針對台灣檢方起訴日本半導體設備製造大廠東京威力科創(TEL)台灣子公司涉及竊取台積電 2 奈米先進製程資料一案,外資 Bernstein 的分析師發表觀點,認為此案的發展不太可能對東京威力科創的財務造成實質性衝擊,反而有助於化解長期以來籠罩在該公司股價上的不確定性陰影。

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台積電 2 奈米洩密案,東京威力科創遭追加起訴後官方回應來了

作者 |發布日期 2025 年 12 月 03 日 16:50 | 分類 半導體 , 材料、設備 , 財經

針對東京威力科創前工程師陳力銘、台積電前工程師吳秉駿、戈一平涉洩漏 2 奈米關鍵技術遭起訴一案,高檢署在日前認定東京威力科創涉犯國家安全法等四罪嫌,追加起訴,建請罰金 1.2 億元的情事,東京威力科發出官方聲明指出,對於本次事件深感遺憾,並以極為嚴肅的態度看待,針對所造成的重大不安,向所有利益相關者致上深切的歉意。

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美光竊密案聯電判刑確定,3 前主管判決撤銷發回更審

作者 |發布日期 2022 年 08 月 17 日 17:15 | 分類 公司治理 , 半導體 , 晶圓

聯電被控涉嫌侵害美光營業祕密案,2022 年 1 月 27 日二審智慧財產及商業法院宣判,原判決撤銷,聯電罰金新台幣 2,000 萬元,緩刑 2 年。而在聯電與美光於 2021 年 11 月 26 日共同宣布,雙方達成全球和解協議,將各自撤回向對方提出的訴訟,聯電將向美光一次支付金額保密的和解金之後,檢方未提上訴而確定。至於,個人部分,台灣美光前主管何建廷、王永銘遭二審法院判決 1 年及 6 個月有期徒刑,聯電協理戎樂天無罪及公訴不受理。檢方對此上訴,最高法院 17 日撤銷 3 人判決,發回更審。

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