ASML 攜 Imec 合建實驗室,供客戶測試最新 High NA EUV 設備 作者 林 妤柔|發布日期 2024 年 06 月 05 日 8:09 | 分類 半導體 , 晶圓 , 會員專區 | edit 全球半導體製造設備龍頭 ASML 週一(3 日)表示,已與比利時晶片研究公司 Imec 合作,於荷蘭 Veldhoven 開設專為 High NA EUV 曝光設備的測試實驗室。 繼續閱讀..
先進封裝市場太夯,Rapidus 量產 2 奈米後準備加入 作者 Atkinson|發布日期 2024 年 05 月 31 日 10:40 | 分類 半導體 , 封裝測試 , 晶圓 | edit 面對人工智慧市場需求,先進封裝為當紅炸子雞,台積電、三星、英特爾等都投入,現在連日本新創晶圓代工廠 Rapidus 也準備加入,市場競爭更激烈。 繼續閱讀..
ASML High-NA EUV 創紀錄,每小時最高生產 500 片晶圓 作者 Atkinson|發布日期 2024 年 05 月 30 日 7:00 | 分類 半導體 , 晶圓 , 會員專區 | edit 曝光機大廠 ASML 於 imec 的 ITF World 2024 宣布,首款 High-NA EUV 曝光機創造晶圓製造速度紀錄,比兩個月前紀錄更快。 繼續閱讀..
台積電暫不用 High NA EUV 曝光機,可能因一事後有所改變 作者 Atkinson|發布日期 2024 年 05 月 28 日 15:00 | 分類 公司治理 , 半導體 , 晶圓 | edit 外媒引用晶圓代工龍頭台積電說法報導,即使沒有使用 ASML 最新 High NA EUV 曝光機,台積電也能做出優秀的先進製程。High NA EUV 太貴,2026 年前購買沒有太大經濟意義,現在看來,台積電可能重新考慮,因台積電總裁魏哲家日前祕密訪問 ASML 總部。 繼續閱讀..
暫忘先進製程!中國高層喊半導體突破口為成熟製程、後段封裝 作者 林 妤柔|發布日期 2024 年 05 月 27 日 10:30 | 分類 中國觀察 , 半導體 , 封裝測試 | edit 美國積極阻止中國獲取最新技術,並祭出口限令,以免中國公司拿到先進晶片和晶片製造設備。市場消息傳出,中國半導體產業協會(CSIA)IC 分會理事長葉甜春鼓勵中國企業專注成熟製程和後段封裝創新,比追趕英特爾、Nvidia 和台積電等更優先。 繼續閱讀..
降低半導體生產成本,ASML 推通用型 EUV 微影曝光機 作者 Atkinson|發布日期 2024 年 05 月 23 日 10:30 | 分類 半導體 , 會員專區 , 材料、設備 | edit 荷蘭媒體 Bits&Chips 報導,曝光微影設備大廠艾司摩爾 (ASML) 顧問兼前技術長 Martin van den Brink 表示,ASML 考慮推出通用型 EUV 微影曝光機,因應市場需求。 繼續閱讀..
AI+中國需求,全球九大晶片設備商業績觸底 作者 MoneyDJ|發布日期 2024 年 05 月 22 日 8:48 | 分類 AI 人工智慧 , 中國觀察 , 半導體 | edit 人工智慧(AI)、中國需求加持,帶動全球九大半導體(晶片)製造設備商業績觸底、本季營收看增趨勢鮮明,九家廠商高達八家本季營收有望呈現增長。 繼續閱讀..
別想武力控制護國神山!彭博社:ASML 及台積電能遠端癱瘓 EUV 作者 Atkinson|發布日期 2024 年 05 月 21 日 17:30 | 分類 中國觀察 , 半導體 , 國際觀察 | edit 彭博社報導,知情人士透露,如果中國入侵台灣,EUV 微影曝光設備製造商 ASML 和台積電有辦法讓先進晶片製造設備癱瘓。 繼續閱讀..
台積電:A16 製程不一定要用艾司摩爾 High NA EUV 作者 中央社|發布日期 2024 年 05 月 15 日 9:01 | 分類 半導體 , 材料、設備 , 零組件 | edit 台積電業務開發資深副總經理張曉強 14 日表示,台積電 A16 製程節點不一定要用到艾司摩爾(ASML)高數值孔徑極紫外光曝光機(High-NA EUV)。 繼續閱讀..
英特爾吃光初期 ASML High NA EUV 產能,但要獲青睞還有路要走 作者 Atkinson|發布日期 2024 年 05 月 08 日 9:00 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片 | edit 英特爾日前宣布,完成世界首套商用高數值孔徑(High NA)EUV 曝光機安裝,這套資約 3.5 億美元(約新台幣 112 億元)的龐然大物年底啟用,先訓練開發 Intel 18A 製程,之後量產 Intel 14A。 繼續閱讀..
強化半導體設備管制出口中國,日本再緊縮出口範圍 作者 Atkinson|發布日期 2024 年 04 月 29 日 9:10 | 分類 中國觀察 , 半導體 , 國際貿易 | edit 日本媒體表示,日本計劃擴大對半導體或量子運算相關的四項技術的出口限制,這是全球控制戰略技術傳遞的最新計畫。 繼續閱讀..
荷晶片設備巨擘 ASML 新 CEO 上任,因應半導體地緣政治角力 作者 中央社|發布日期 2024 年 04 月 25 日 10:15 | 分類 半導體 , 國際貿易 , 晶片 | edit 荷蘭半導體設備龍頭艾司摩爾(ASML)商務長福克 24 日接任執行長和總裁,在半導體成為地緣政治戰場之際,持續領導中國業務成為他履新後任務清單的重中之重。 繼續閱讀..
英特爾組裝完成首套 High-NA EUV,2027 年生產 Intel 14A 製程 作者 Atkinson|發布日期 2024 年 04 月 19 日 9:10 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片 | edit 英特爾晶圓代工達成先進半導體製造邁出重大里程碑,其位於美國俄勒岡州希爾斯伯勒的英特爾研發基地,英特爾研發人員已完成業界首台商用高數值孔徑極紫外光微影設備(High NA EUV)組裝。 繼續閱讀..
紀念性一刻!ASML 最新 High-NA EUV,成功印首條 10 奈米密集線 作者 林 妤柔|發布日期 2024 年 04 月 18 日 16:28 | 分類 半導體 , 會員專區 , 材料、設備 | edit ASML 宣布首款 0.55 數值孔徑(High-NA)EUV 曝光設備已列印出第一個圖案。最新貼文,High-NA EUV 系統成功列印出第一條 10 奈米密集線(dense lines)。 繼續閱讀..
ASML:中國占 49%,Q1 機台營收、二成積壓訂單 作者 MoneyDJ|發布日期 2024 年 04 月 18 日 9:04 | 分類 中國觀察 , 半導體 , 材料、設備 | edit 荷蘭半導體設備業龍頭艾司摩爾(ASML Holding N.V.)高層預測,中國客戶的需求將續強,公司積壓訂單占比約 20%。 繼續閱讀..