Tag Archives: EUV

中國政府欲攜手日企開發半導體曝光設備,市場觀察其結果

作者 |發布日期 2020 年 10 月 13 日 17:40 | 分類 IC 設計 , 中國觀察 , 國際觀察

隨著美國政府加強對中國半導體企業的制裁與管制,使得過去中國設定到 2025 年中國的晶片自給率要達到 7 成的目標存在變數。對此,《日本經濟新聞》報導指出,面對美國的制裁,從長遠來看,這將反而可能會助長中國半導體產業的自立與發展。尤其是為了突破美國對中國的高科技設備封鎖,中國方面將聯合日本廠商 Nikon 及 Canon 一起研發除 EUV 之外的其他曝光設備。

繼續閱讀..

家登:第 4 季將優於第 3 季,2021 年切入航太市場預計為營收增溫

作者 |發布日期 2020 年 09 月 25 日 16:45 | 分類 國際貿易 , 晶圓 , 晶片

光罩盒製造廠商家登 24 日表示,目前因為在與大客戶議價的的階段,因此整體 EUV 產品的出貨狀況暫緩。預計 9 月底之前議價完成後,將能進一步帶動整體的營收。董事長邱銘乾表示,目前預計 2020 年第 4 季將會比第 3 季表現好,2021 年除了 EUV 產品進入爆發期,已取得航空認證的家登也會開始進入航太產業的供應鏈,預計自 2021 下半年開始挹注,使 2021 年業績將會「非常好」。

繼續閱讀..

台積電先進製程重要關鍵,ASML 解析 EUV 三大模組功能

作者 |發布日期 2020 年 09 月 21 日 16:30 | 分類 晶圓 , 晶片 , 會員專區

為了支援台積電先進製程陸續開工與之後發展,全世界極紫外光曝光機(EUV)龍頭艾司摩爾(ASML)在南科設置的 EUV 技術培訓中心正式揭幕,讓外界一窺每套價值 1.2 億歐元的 EUV 究竟長什麼樣子。據 ASML 之前公布資料顯示,一部長度超過 10 公尺、高度達 2 層樓的 EUV,每台有超過 10 萬個零件,加上 3 千條電線、4 萬個螺栓及 2 公里長的軟管等零組件,最大重量達 180 公噸。整部曝光機是由「照明光學模組」(Illumination & Projection)、「光罩模組」(Reticle)及「晶圓模組」(Wafer)三大部分組成。

繼續閱讀..

中國國產晶片技術升級恐遇阻,弘芯 7 奈米光刻機被抵押

作者 |發布日期 2020 年 09 月 01 日 14:15 | 分類 中國觀察 , 國際貿易 , 晶片

香港經濟日報報導,中美科技戰白熱化,中國政府致力扶植國產晶片企業崛起,期望實現晶片產業自力更新。但在此關鍵時刻,號稱投資逾千億人民幣的晶片項目武漢弘芯因項目有較大資金缺口,隨時面臨資金鏈斷裂導致項目停滯風險;從荷蘭購入、目前是中國國內唯一一部 7 奈米晶片光刻機,還未使用已遭抵押。 繼續閱讀..

先進製程與先進封裝雙馬車,讓台積電能邊稱王邊廣積糧

作者 |發布日期 2020 年 09 月 01 日 8:00 | 分類 Samsung , 晶圓 , 晶片

晶圓代工龍頭台積電全球市占率約 55%,市值排名全球第十大。根據高科技產業研究機構 TrendForce 最新預估,2020 年第三季全球晶圓代工業者營收將成長 14%,其中,台積電第三季營收年成長高達 21%,這麼大的量體卻屢屢繳出令市場驚豔的成長性,相較之下,市占率排第二的三星電子年成長僅 4%。 繼續閱讀..

先進製程熱,台積電再以 8.6 億元購買益通南科廠房,近期 3 筆交易共超過 51 億元

作者 |發布日期 2020 年 08 月 21 日 9:15 | 分類 國際觀察 , 晶圓 , 晶片

針對當前先進製程的供不應求,晶圓代工龍頭台積電準備持續在南科擴產。根據台積電在 20 日晚間的公告,將斥資新台幣 8.6 億元向太陽能廠商益通購買位於南科的廠房與附屬設施,這是台積電近期以來第 3 度在南科購買土地資產,顯示台積電在南科的擴建企圖。

繼續閱讀..

ASML 南科 EUV 技術培訓中心揭幕,斥資 4.7 億元每年訓練 360 名工程師

作者 |發布日期 2020 年 08 月 20 日 17:45 | 分類 晶圓 , 晶片 , 會員專區

全球半導體微影技術廠商艾司摩爾(ASML)今日舉行「EUV(極紫外光)全球技術培訓中心」開幕典禮。培訓中心坐落台南科學園區,占地 1,625 平方公尺,配備實機模組(live module),提供技術理論課程和無塵室實機操作課程等多元化培訓內容,總投資金額達 1,350 萬歐元(約新台幣 4.74 億元)。目前配置 14 位講師,估計每年可提供數千小時課程,為 ASML 和客戶培育 360 位 EUV 技術工程師。培訓中心設立後,ASML 在台灣的研發團隊人數也預計 3 年內由原本 280 人提升至 500 人。

繼續閱讀..

服務台積電,ASML 在台建立 EUV 技術培訓中心 20 日南科開幕

作者 |發布日期 2020 年 08 月 19 日 16:15 | 分類 晶圓 , 晶片 , 會員專區

隨著半導體先進製程需求增加,晶圓代工龍頭台積電不斷擴增先進製程產能之際,負責供應台積電先進半導體製程中關鍵設備──極紫外光刻機(EUV)的荷蘭半導體設備商艾司摩爾(ASML)也順應趨勢,正式在台灣南科設立 EUV 全球技術培訓中心,將在 20 日正式開幕,於當地訓練 EUV 設備人才。

繼續閱讀..

看準台積電大幅採用 EUV,科磊推電子束圖案化晶圓缺陷檢測

作者 |發布日期 2020 年 07 月 21 日 18:30 | 分類 國際貿易 , 晶圓 , 晶片

就在晶圓代工龍頭台積電已經進入 5 奈米製程量產,並且大量採用極紫外光刻設備(EUV)的情況下,美商半導體設備商科磊(KLA)於 21 日宣布,推出革命性的 eSL10 電子束圖案化晶圓缺陷檢測系統。透過該項新的檢測系統,可以發現相關光學或其他電子束缺陷檢測系統無法穩定偵測的缺陷,藉此以加快高性能邏輯和記憶體晶片,其中包括那些依賴於極紫外光刻(EUV) 技術的晶片的上市時間。

繼續閱讀..

衝刺先進製程,美商應材推新技術以解決平面微縮重大瓶頸

作者 |發布日期 2020 年 07 月 21 日 11:30 | 分類 晶圓 , 晶片 , 會員專區

半導體設備大廠美商應材,21 日宣布推出新式的選擇性鎢 (Selective Tungsten) 製程技術,可提供晶片廠商以新的方式構建電晶體觸點,這是連結電晶體與晶片中其他電路非常關鍵的第一層電路。而藉由這項創新的選擇性沉積技術,可以降低影響電晶體性能並增加耗電量的接觸電阻。另外,這項技術,電晶體的節點微縮與觸點能縮小至 5 奈米、3 奈米甚至更小,並同步提升晶片功率、性能與面積/成本 (chip power, performance and area/cost,PPAC)。

繼續閱讀..

南韓媒體稱三星靠 EUV 縮小與台積電差距,且台積電市占將跌破 50%

作者 |發布日期 2020 年 07 月 17 日 16:40 | 分類 Samsung , 國際貿易 , 晶圓

因為是全球目前唯一生產極紫外光刻設備 (EUV) 的廠商,在目前半導體生產需求與技術都進一步提高的情況下,荷蘭商艾司摩爾 (ASML) 在 2020 年第 2 季的淨利較 2019 年的同期翻漲了一倍。接下來,預計晶圓代工龍頭台積電與對手三星持續在晶圓製造上的發展與競爭,預期將使得 ASML 的獲利持續快速飆高。

繼續閱讀..