繼三星後，SK 海力士宣布 2021 下半年採 EUV 生產 1a 奈米製程 DRAM |
作者
Atkinson|發布日期
2020 年 10 月 30 日 16:15 |
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根據國外媒體報導，荷蘭曝光機生產大廠艾司摩爾（ASML）是目前全世界唯一生產極紫外光曝光設備（EUV）的廠商，用於先進半導體製程，也就是 7 奈米以下製程扮演關鍵性角色，包括台積電及三星都用來生產先進處理器（CPU）及繪圖晶片，另外三星也用在記憶體 DRAM 製造。為了追上三星腳步，南韓另一家記憶體大廠 SK 海力士（SK Hynix）也宣布，預計自 2021 下半年開始量產採 EUV 技術的 DRAM。
家登：第 4 季將優於第 3 季，2021 年切入航太市場預計為營收增溫 |
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作者
Atkinson|發布日期
2020 年 09 月 25 日 16:45 |
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光罩盒製造廠商家登 24 日表示，目前因為在與大客戶議價的的階段，因此整體 EUV 產品的出貨狀況暫緩。預計 9 月底之前議價完成後，將能進一步帶動整體的營收。董事長邱銘乾表示，目前預計 2020 年第 4 季將會比第 3 季表現好，2021 年除了 EUV 產品進入爆發期，已取得航空認證的家登也會開始進入航太產業的供應鏈，預計自 2021 下半年開始挹注，使 2021 年業績將會「非常好」。
台積電先進製程重要關鍵，ASML 解析 EUV 三大模組功能 |
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作者
Atkinson|發布日期
2020 年 09 月 21 日 16:30 |
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為了支援台積電先進製程陸續開工與之後發展，全世界極紫外光曝光機（EUV）龍頭艾司摩爾（ASML）在南科設置的 EUV 技術培訓中心正式揭幕，讓外界一窺每套價值 1.2 億歐元的 EUV 究竟長什麼樣子。據 ASML 之前公布資料顯示，一部長度超過 10 公尺、高度達 2 層樓的 EUV，每台有超過 10 萬個零件，加上 3 千條電線、4 萬個螺栓及 2 公里長的軟管等零組件，最大重量達 180 公噸。整部曝光機是由「照明光學模組」（Illumination & Projection）、「光罩模組」（Reticle）及「晶圓模組」（Wafer）三大部分組成。
