Tag Archives: EUV

擔心搶不贏台積電，SK 海力士與 ASML 簽訂 43.4 億美元 EUV 供應合約

作者 Atkinson|發布日期 2021 年 02 月 25 日 11:30 |

分類國際貿易 , 會員專區 , 材料、設備

據《路透社》報導，南韓記憶體大廠 SK 海力士於台北時間 24 日表示，已與全球曝光設備生產大廠 ASML 簽訂為期 5 年，價值 4.8 兆韓圜（約 43.4 億美元）採購合約。市場人士指出，SK 海力士與 ASML 簽訂合約的主要目的，是確保記憶體製造過程採購到足夠 EUV 極紫外線曝光設備。

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台積電證實因應水情吃緊，啟動部分廠區水車供水

作者 Atkinson|發布日期 2021 年 02 月 23 日 16:30 |

分類晶圓 , 晶片 , 會員專區

國內水情吃緊，根據中央氣象局預報顯示，2021 年春季降雨量偏低，晶圓代工龍頭台積電證實，包括新竹、台中、台南各科學園區開始部分啟動水車供水。

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分析機構曝光三星開發 1z 奈米 EUV 製程 DRAM 規格祕辛

作者 Atkinson|發布日期 2021 年 02 月 20 日 15:20 |

分類 Samsung , 會員專區 , 材料、設備

南韓三星近期積極將極紫外（EUV）曝光技術應用於採用 1z 奈米製程的 DRAM 記憶體生產，並完成量產。據半導體分析機構《TechInsights》拆解分別採用 EUV 技術和 ArF-i 技術的三星 1z 奈米製程 DRAM 後，發現 EUV 技術除了提升三星生產效率，還縮小 DRAM 的節點設計尺寸，另外還比較三星與美光 1z 奈米製程 DRAM，採用 EUV 技術的三星 DRAM 核心尺寸（Cell Size）同樣較小。

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隨台積電布局先進製程，光罩盒廠家登斥資 9.1 億元購買土地擴產

作者 Atkinson|發布日期 2021 年 02 月 18 日 17:10 |

分類公司治理 , 晶圓 , 會員專區

在晶圓代工龍頭台積電全力衝刺先進製程，並因此規劃有史以來最高資本支出金額之後，EUV 光罩盒重要供應商的家登，也跟隨腳步，積極布局產能，18 日透過重大訊息公布，將斥資逾新台幣 9.1 億元取得新北市土城區土地不動產約 1,626 坪，興建廠辦，並預計近日舉行破土開工典禮。

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挽救摩爾定律：ASML 極紫外光（EUV）微影技術量產的開發歷程

作者 TN Choice|發布日期 2021 年 02 月 15 日 0:00 |

分類晶片 , 材料、設備 , 零組件

2019 年底在舊金山舉辦的年度國際電子元件會議（IEDM）上，台積電公布的兩個報告標誌著積體電路製造邁入了 EUV 微影時代。第一個報告宣布了應用 EUV 微影技術的 7 奈米世代的改良版晶片已經於 2019 年正式量產，我們知道這個技術已經用在 2019 年生產的麒麟 990 5G 這顆有多於 100 億個電晶體的晶片上。

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英特爾 EUV 設備不夠，研調：台積電明年獲 7 奈米 CPU 訂單

作者 MoneyDJ|發布日期 2021 年 02 月 03 日 14:35 |

分類晶圓 , 晶片 , 材料、設備

市調機構 Counterpoint Research 警告，即便晶圓代工廠 2021 年將積極擴大資本支出，晶片供給吃緊問題，最快恐怕要等到 2021 下半年才有解。另外，由於英特爾（Intel Corp.）內部取得的極紫外光（EUV）微影設備不夠用，預測台積電最快有望 2022 年底取得英特爾 7 奈米 CPU 訂單。繼續閱讀..

SK 海力士 M16 新廠導入 EUV 技術，預計下半年量產 1α 製程 DRAM

作者 Atkinson|發布日期 2021 年 02 月 02 日 9:00 |

分類國際貿易 , 會員專區 , 記憶體

根據外電報導，南韓記憶體大廠 SK 海力士於 2 月 1 日正式宣佈，該公司位於南韓利川市的 M16 新廠已經完工，並且在其中導入極紫外光曝光設備 (EUV)，未來將正式採用 EUV 設備來生產記憶體。

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SK 海力士 M16 廠竣工，6 月量產第 4 代 10 奈米級 DRAM

作者 MoneyDJ|發布日期 2021 年 01 月 29 日 16:15 |

分類晶片 , 記憶體 , 零組件

南韓第二大半導體廠 SK 海力士（SK hynix）29 日宣布，因應市場需求回升，該公司將擴充產能規模，新建的 M16 產線預計今年 6 月啟動量產，以進一步擴大 DRAM 記憶體供應。繼續閱讀..

2021 年美光資本支出 90 億美元因應需求，EUV 導入時程仍在評估

作者 Atkinson|發布日期 2021 年 01 月 28 日 16:10 |

分類國際貿易 , 會員專區 , 記憶體

面對當前市場對於記憶體的需求，美商記憶體大廠美光（Micron）指出，2021 年美光的資本支出將達 90 億美元，除了希望因應市場需求，也希望擴廠與採用新技術。針對導入 EUV 的時程，美光強調已進行先期測試，未來希望在最佳時間點導入。

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ASML 設備出口僵局，考驗拜登政府是否斷中國「芯」

作者 VOA 美國之音|發布日期 2021 年 01 月 26 日 8:30 |

分類國際觀察 , 國際貿易 , 尖端科技

美國新任總統拜登是否延續川普政府時期對中國半導體產業的高壓路線，備受外界關注。處理荷蘭曝光機巨頭 ASML（艾司摩爾）對中國出口受限問題，可能是拜登政府在美中科技戰首先面臨的考驗。繼續閱讀..

2020 年半導體市場表現亮眼，艾司摩爾營收獲利均創新高

作者 Atkinson|發布日期 2021 年 01 月 20 日 18:00 |

分類會員專區 , 材料、設備 , 財報

半導體設備大廠艾司摩爾（ASML）台北時間 20 日公布 2020 年第 4 季及 2020 年度全年財報。營收、獲利都創新高，整體表現優於公司先前的財測與市場預期的情況下，ASML 於 20 日在美股的股價一度大漲超過 4%，股價一度站上 551.15 美元。

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台積電今年再買逾 15 台 EUV，供應鏈沾光

作者 MoneyDJ|發布日期 2021 年 01 月 20 日 12:30 |

分類材料、設備 , 財經 , 零組件

進入後摩爾時代，極紫外光（EUV）微影成為推動先進製程向前邁進的關鍵技術，目前包括台積電、三星（Samsung）、英特爾（Intel）等大廠也積極導入 EUV。據供應鏈消息，2021 年 ASML（艾司摩爾）EUV 設備出貨量從 40 台起跳，台積電包下至少 15 台、上看 20 台，穩居最大客戶；法人看好 ASML 供應鏈的帆宣、家登、公準等有望持續受惠。繼續閱讀..