ASML 第二代 EUV 曝光機開發傳瓶頸，神隊友救援力拚原時程問世 |
作者
Atkinson|發布日期
2021 年 06 月 10 日 14:00 |
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極紫外光曝光機（EUV）目前是先進半導體製程，不論 DRAM 或晶圓代工生產提升效能的關鍵。荷蘭商艾司摩爾（ASML）是全球唯一量產 EUV 曝光機的廠商，台積電、三星、英特爾先進製程都依賴 EUV 曝光機生產。現階段每台曝光機單價將近 1.5 億美元，但 ASML 的 EUV 曝光機目前出貨都是光源波長 13.5 奈米左右的第一代產品，物鏡 NA 數孔徑是 0.33，據 ASML 表示，第二代 EUV 曝光機已進入開發階段。
艾司摩爾 2021 年首季營收 44 億歐元達標，全年營收預估成長 30% |
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作者
Atkinson|發布日期
2021 年 04 月 21 日 15:10 |
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在當前全面臨晶片花的情況下，全球半導體微影技術大廠艾司摩爾 (ASML) 台北時間 21 日發佈 2021 年第 1 季，2021 年第 1 季銷售淨額 (net sales) 為 44 億歐元，淨收入 (net income) 為 13 億歐元，毛利率 (gross margin) 為 53.9%，新增訂單金額 47 億歐元。另外，針對 2021 年第 2 季展望，艾司摩爾預估淨收入約落在 40 億到 41 億歐元間，毛利率約 49%。
