Tag Archives: EUV

韓媒指三星華城 V1 產線 5 奈米良率不佳,部分甚至低於 50%

作者 |發布日期 2021 年 07 月 05 日 13:50 | 分類 Samsung , 晶圓 , 晶片

外媒才爆料,因三星 5 奈米 LPE 製程品質不佳,行動處理器大廠高通(Qualcomm)驍龍 Snapdragon 888 處理器升級效能不如預期,目前準備考慮下一代驍龍 Snapdragon 895 升級採用台積電 4 奈米製程。呼應此消息的是,南韓媒體最新報導,三星 5 奈米製程良率不佳,部分甚至低於 50%,影響到三星產能供應。

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SK 海力士花 8,000 億韓圜買設備,M16 產線估年底月產達 1.8 萬片

作者 |發布日期 2021 年 06 月 29 日 8:45 | 分類 公司治理 , 會員專區 , 記憶體

根據南韓媒體《ETNews》報導,南韓記憶體大廠 SK 海力士將針對 2 月才落成的 M16 新晶圓廠,投資 8,000 億韓圜(約新台幣 214 億元)設置生產設備,包括極紫外線(EUV)曝光機,預計 2021 年底前達到每月量產 1.8 萬片 12 吋晶圓的目標。

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不認同外資調降台積電目標價至 580 元,市場長文提六大錯誤反駁

作者 |發布日期 2021 年 06 月 25 日 7:00 | 分類 晶圓 , 晶片 , 會員專區

日前美系外資以先進製程需大規模資本投資,導致毛利率下滑,加上中國 5G 智慧型手機市場銷售成長停滯,將影響零組件的發展等理由,調降晶圓代工龍頭台積電的投資評等,目標價由原本每股 655 元下修至每股 580 元,有部落格產業分析作家特別撰文舉出六大錯誤看法,反駁美系外資調降台積電投資評等及目標價,這也顯示這次美系外資報告不受投資圈認同。

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ASML 第二代 EUV 曝光機開發傳瓶頸,神隊友救援力拚原時程問世

作者 |發布日期 2021 年 06 月 10 日 14:00 | 分類 晶片 , 會員專區 , 材料、設備

極紫外光曝光機(EUV)目前是先進半導體製程,不論 DRAM 或晶圓代工生產提升效能的關鍵。荷蘭商艾司摩爾(ASML)是全球唯一量產 EUV 曝光機的廠商,台積電、三星、英特爾先進製程都依賴 EUV 曝光機生產。現階段每台曝光機單價將近 1.5 億美元,但 ASML 的 EUV 曝光機目前出貨都是光源波長 13.5 奈米左右的第一代產品,物鏡 NA 數孔徑是 0.33,據 ASML 表示,第二代 EUV 曝光機已進入開發階段。

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艾司摩爾 2021 年首季營收 44 億歐元達標,全年營收預估成長 30%

作者 |發布日期 2021 年 04 月 21 日 15:10 | 分類 國際貿易 , 會員專區 , 材料、設備

在當前全面臨晶片花的情況下,全球半導體微影技術大廠艾司摩爾 (ASML) 台北時間 21 日發佈 2021 年第 1 季,2021 年第 1 季銷售淨額 (net sales) 為 44 億歐元,淨收入 (net income) 為 13 億歐元,毛利率 (gross margin) 為 53.9%,新增訂單金額 47 億歐元。另外,針對 2021 年第 2 季展望,艾司摩爾預估淨收入約落在 40 億到 41 億歐元間,毛利率約 49%。

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晶片荒下艾司摩爾將公布首季財報,美國收緊出口中國成發展關鍵

作者 |發布日期 2021 年 04 月 21 日 8:30 | 分類 會員專區 , 材料、設備 , 財報

上週晶圓代工龍頭台積電宣布 2021 年度資本支出推升至史上新高的 300 億美元,市場預估半導體設備廠未來都能受惠,投資人也都將眼光放到接下來的設備廠財報。全球最大半導體設備供應商艾司摩爾 (ASML) 預計美國時間 21 日公布首季財報,目前全球面臨晶片缺乏,艾司摩爾財報能透露什麼訊息,牽動全球半導體市場,投資人都引頸期待。

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南亞科斥資 3 千億元新北市興建新晶圓廠,完成後每月增加 4.5 萬片

作者 |發布日期 2021 年 04 月 20 日 12:15 | 分類 公司治理 , 會員專區 , 記憶體

國內 DRAM 記憶體大廠南亞科技 20 日宣布,將斥資新台幣 3,000 億元,於新北市興建新晶圓廠。預計 2021 年底動土之後,2023 年正式建廠完成,2024 年開始進行第一階段量產,全部完工之後將可提供每月 45,000 片晶圓的產能,並增加 2,000 個優質的就業機會。

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美國恐進一步限制 DUV 出口中國,三星與 SK 海力士憂受衝擊

作者 |發布日期 2021 年 04 月 13 日 17:50 | 分類 國際貿易 , 晶片 , 會員專區

針對全球性的晶片缺貨問題,美國拜登政府才在 14 日邀集包括美國歐半導體設備大廠,汽車製造廠商、台灣台積電與南韓三星等重量級晶圓代工廠共同參加會議,以討論解決由美國所主導的半導體供應鏈失衡的情況。而在此同時,南韓媒體報導,面對中國積極發展半導體產業的態度,美國政府恐怕不僅將禁止極紫外光(EUV)曝光機的出口到中國,恐怕連浸潤式 ArF 深紫外光(DUV)曝光設備都將被列入禁止出口中國品項。

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ASML:摩爾定律沒有減速或失效,還將持續 10 年或更久時間

作者 |發布日期 2021 年 03 月 29 日 17:40 | 分類 晶圓 , 會員專區 , 材料、設備

眾所周知,荷蘭商艾司摩爾(ASML)曝光機一直是半導體製造的關鍵設備,尤其獨家生產的極紫外光曝光機(EUV)更是不可或缺,也是協助台積電、三星、英特爾能往先進製程發展的重要設備,美國限制中國無法取得 EUV,使中國半導體發展始終落後其他國家。

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