ASML:摩爾定律沒有減速或失效,還將持續 10 年或更久時間 作者 Atkinson | 發布日期 2021 年 03 月 29 日 17:40 | 分類 晶圓 , 會員專區 , 材料、設備 | edit 眾所周知,荷蘭商艾司摩爾(ASML)曝光機一直是半導體製造的關鍵設備,尤其獨家生產的極紫外光曝光機(EUV)更是不可或缺,也是協助台積電、三星、英特爾能往先進製程發展的重要設備,美國限制中國無法取得 EUV,使中國半導體發展始終落後其他國家。 從這裡可透過《Google 新聞》追蹤 TechNews 科技新知,時時更新 科技新報粉絲團 加入好友 訂閱免費電子報 關鍵字: ASML , EUV , 三星 , 半導體設備 , 台積電 , 晶圓 , 晶片 , 英特爾