台積電 3 奈米製程將於明年下半年量產,究竟哪家客戶會搶到頭香,市場眾說紛紜。 繼續閱讀..
台積電 3 奈米仍由蘋果搶頭香,擬推改款版 |
| 作者 MoneyDJ|發布日期 2021 年 09 月 01 日 11:20 | 分類 iPhone , 晶圓 , 晶片 |

ASML 第二代 EUV 曝光機開發傳瓶頸,神隊友救援力拚原時程問世 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2021 年 06 月 10 日 14:00 | 分類 晶片 , 會員專區 , 材料、設備 | edit |
極紫外光曝光機(EUV)目前是先進半導體製程,不論 DRAM 或晶圓代工生產提升效能的關鍵。荷蘭商艾司摩爾(ASML)是全球唯一量產 EUV 曝光機的廠商,台積電、三星、英特爾先進製程都依賴 EUV 曝光機生產。現階段每台曝光機單價將近 1.5 億美元,但 ASML 的 EUV 曝光機目前出貨都是光源波長 13.5 奈米左右的第一代產品,物鏡 NA 數孔徑是 0.33,據 ASML 表示,第二代 EUV 曝光機已進入開發階段。
艾司摩爾 2021 年首季營收 44 億歐元達標,全年營收預估成長 30% |
| 作者 Atkinson|發布日期 2021 年 04 月 21 日 15:10 | 分類 國際貿易 , 會員專區 , 材料、設備 | edit |
在當前全面臨晶片花的情況下,全球半導體微影技術大廠艾司摩爾 (ASML) 台北時間 21 日發佈 2021 年第 1 季,2021 年第 1 季銷售淨額 (net sales) 為 44 億歐元,淨收入 (net income) 為 13 億歐元,毛利率 (gross margin) 為 53.9%,新增訂單金額 47 億歐元。另外,針對 2021 年第 2 季展望,艾司摩爾預估淨收入約落在 40 億到 41 億歐元間,毛利率約 49%。
