IBM 攜三星推全球首顆 7 奈米晶片,採 EUV 技術

作者 | 發布日期 2015 年 07 月 09 日 15:10 | 分類 Samsung , 晶片 , 零組件 follow us in feedly
moneydj 配圖

三星電子(Samsung Electronics Co.)與 IBM Corp.攜手合作,朝 7 奈米先進製程跨進了一大步!




華爾街日報、ZDNet 等多家外電報導,IBM 研究實驗室(IBM Research)9 日宣布,IBM 與夥伴格羅方德半導體(GlobalFoundries Inc.)、三星和紐約州立大學奈米理工學院終於突破重大瓶頸,共同打造出全球首顆 7 奈米晶片原型,進度超越英特爾(Intel Corp.)等競爭對手。

IBM 半導體科技研究部副總裁 Mukesh Khare 表示,這款測試晶片首度在 7 奈米電晶體內加入一種叫做「矽鍺」(silicon germanium,簡稱 SiGe)的材料,並採用了極紫外光(EUV)微影技術。荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾(ASML Holding NV)本身研發的 EUV 設備一台要價 1.5 億美元,相較之下他種微影系統一台售價只有 5,000 萬美元。

Ars Technica 9 日指出,7 奈米製程晶片至少還要等兩年才能具有商業用途,但 IBM 與其夥伴的突破仍具有重大意義。首先,這款晶片採用的製程技術低於 10 奈米,還是第一款使用矽鍺的 10 奈米以下 FinFET 邏輯晶片,另外也是全球第一個導入 EUV 技術、能有商業用途的晶片設計。

英特爾對 14 奈米製程技術的校正進度已延遲約六個月,目前則在開發 10 奈米技術,有望於 2016 年問世。英特爾資深主管 Mark Bohr 最近曾表示,該公司的 7 奈米製程應該不需要改用 EUV 設備,但他並未透露更多細節。

彭博社報導,英特爾是 ASML 在美國的最大客戶。ING Bank NV 分析師 Robin van den Broek 當時在接受專訪時指出,這明顯是英特爾想要在 7 奈米製程技術中導入 EUV 設備,而假如以正常的報價計算,這筆訂單的金額將高達 15 億歐元;也就是說,英特爾已將一筆為數不小的資金投入了 7 奈米製程科技。den Broek 還說,ASML 另外兩家大客戶分別是三星與台積電,他認為這兩家業者也會跟進導入 EUV。

(本文由 MoneyDJ新聞 授權轉載)

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