三星 EUV 技術蓄勢待發,7 奈米拚下半年投產

作者 | 發布日期 2018 年 05 月 23 日 10:05 | 分類 Samsung , 晶片 , 零組件 follow us in feedly

三星周三發布新聞稿宣布,全球第一個採用極紫外光(EUV)微影設備的 7 奈米 LPP(Low Power Plus)製程,已準備好於 2018 下半年投產。



三星的目標很明確,就是成為未來先進運算與物聯網晶片生產技術的領導者,並進而分食台積電的晶圓代工訂單。

儘管外界看好台積電在 7 奈米製程競賽仍居領先地位,但三星將是第一個在 7 奈米製程導入 EUV 微影技術並成功量產的晶圓代工廠,為下一世代製程反超前台積電奠定基礎。三星在新聞稿同時預告 5 奈米、4 奈米與 3 奈米製程的開發計畫。

調研機構 IC Insights 周二發布報告指出,三星首季半導體資本支出 67.2 億美元,稍高於前 3 季水平,顯示三星發展半導體仍緊踩油門不放。三星半導體部門過去 4 季累計資本支出高達 266 億美元。

整體來看,IC Insights 預估全球半導體業 2018 年資本支出將成長 14%,較 3 月的預估值多出 6 個百點,且將首度超過 1 千億美元大關。

(本文由 MoneyDJ新聞 授權轉載;首圖來源:shutterstock)