ASML 登上全球半導體曝光設備龍頭，兩個轉捩點都與台積電有關
作者 | 發布日期 2021 年 11 月 18 日 12:10 | 分類 公司治理 , 晶圓 , 晶片 line share follow us in feedly line share
ASML 登上全球半導體曝光設備龍頭，兩個轉捩點都與台積電有關


外媒報導，半導體製程一家獨大的極紫外光曝光設備 (EUV) 廠商艾司摩爾 (ASML)，幾乎成為各半導體製造商發展不可或缺的夥伴，尤其 10 奈米以下先進製程，沒有 EUV 協助幾乎不能做。ASML 如何爬上龍頭之位，有兩個關鍵轉捩點。

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