英特爾年底接收業界首套 High-NA EUV 微影曝光設備 作者 Atkinson | 發布日期 2023 年 10 月 03 日 8:30 | 分類 半導體 , 會員專區 , 材料、設備 | edit Loading... Now Translating... 英特爾 (Intel) 上週宣布,投資 185 億美元的愛爾蘭 Fab 34 晶圓廠以 EUV 微影曝光設備量產,是英特爾晶片製造的重要里程碑。 文章看完覺得有幫助,何不給我們一個鼓勵 請我們喝杯咖啡 想請我們喝幾杯咖啡? 每杯咖啡 65 元 x 1 x 3 x 5 x 您的咖啡贊助將是讓我們持續走下去的動力 總金額共新臺幣 0 元 《關於請喝咖啡的 Q & A》 留給我們的話 取消 確認 從這裡可透過《Google 新聞》追蹤 TechNews 科技新知,時時更新 科技新報粉絲團 加入好友 訂閱免費電子報 關鍵字: 3 奈米 , ASML , EUV , High-NA EUV , Intel 3 , Intel 4 , 英特爾