進入 2 奈米以下埃米時代後，ASML 高數值孔徑極紫外光 (High-NA EUV) 曝光機就成為先進製程半導體廠的關鍵。英特爾 4 月宣佈業界首套 High-NA EUV 組裝完成後，台積電月底也會引進首套 High-NA EUV，較外界猜測年底提前一季，也超車很想搶在台積電前面的三星。
台積電之前態度較保守，技術論壇歐洲場表示，不會立即購入 High-NA EUV，因價格太貴，幾年內都不需高階 EUV。市場分析師指出，台積電採用 High-NA EUV 會在 2030 年後。
台積電董事長魏哲家不久前缺席年度技術論壇台北場，改拜訪荷蘭 ASML 總部，外界解讀為台積電對 High-NA EUV 態度轉變，對手英特爾已購入，故台積電下一步對市場優勢就是關鍵，提早採購 High-NA EUV。ASML 財務長 Roger Dassen 也證實，兩大客戶台積電和英特爾年底都會收到 High-NA EUV。
外媒報導，ASML 發言人 Monique Mols 說，年底交貨的 High-NA EUV 每套 3.8 億美元 (約新台幣 120 億元)。最新消息指出，台積電首套 High NA EUV 買價遠低於定價。
能讓龍頭 ASML 也給折扣的主因，外界推測還是數量。畢竟台積電 A16 製程已有客戶下單，英特爾與三星是否能成功進入埃米製程還在未定之天，ASML 當然選擇服務好台積電。除了價格折扣，ASML 也會全力支援技術面。而 ASML 不評論此消息。
(首圖來源：imec)
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