南韓在 EUV 技術專利積極追趕，恐成為台積電未來潛在威脅

根據南韓媒體《BusinseeKorea》的最新報導指出，由於極紫外光 (EUV) 曝光技術牽涉新一代半導體的生產，而且影響邏輯晶片與記憶體的先進製程，這使得南韓方面不斷強化其在專利上的申請數量。根據南韓知識產權局（KIPO）的統計數據顯示，2019 年南韓企業或單位提出有關 EUV 專利的申請數量首次超越國外企業，這將成為南韓企業未來發展 EUV 技術與產品的利器。