全球最大半導體設備龍頭 ASML 已著手研發下一代先進微影設備,為未來十年的晶片產業做準備。該公司技術執行副總裁 Jos Benschop 向日經指出,這項技術足夠先進,可滿足 2035 年之後的製程需求。 繼續閱讀..
挑戰 5 奈米單次曝光!ASML 攜蔡司研發新一代 Hyper NA EUV 設備 |
| 作者 林 妤柔|發布日期 2025 年 06 月 26 日 18:02 | 分類 半導體 , 晶圓 , 材料、設備 |



