2023 年末,ASML 向英特爾交貨了首套 High-NA EUV 微影曝光設備,型號為 TWINSCAN EXE:5000 的系統。英特爾將其做為試驗機,並於 2024 年在美國俄勒岡州的 Fab D1X 晶圓廠完成安裝。之後,該晶圓廠成為英特爾半導體技術研發基地,進一步研發使用 High-NA EUV 設備的技術與產品。
英特爾安裝首套二代 High-NA EUV,將用於 Intel 14A 製程 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2025 年 12 月 17 日 11:45 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片 |



