比利時微電子研究中心(imec)日前發布重大消息,宣布其在高數值孔徑極紫外曝光(High NA EUV)單次圖形化技術上取得新的突破性里程碑,代表著 High NA EUV 圖形化能力向 A10 及更先進邏輯節點邁進的強大實力,同時也強調了 imec 在曝光為影技術研發領域的領先地位。
imec 宣布單次曝光 High NA EUV 微影技術重大突破,推進 2 奈米以下製程發展 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2025 年 09 月 29 日 10:10 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片 |



