搶購半導體生產設備,2023 年中國進口金額達近來次高 作者 Atkinson|發布日期 2024 年 01 月 23 日 8:00 | 分類 中國觀察 , 半導體 , 晶圓 | edit 隨著美國與相關國家對中國半導體晶片出口的加強管制,中國相關企業為因應趨勢而加大投資,企圖能自行生產半導體晶片等產品,也造成相關半導體產業積極發展。如此,使得 2023 年中國半導體生產設備的進口量大幅增加,達到了 2015 年以來的次高水準。 繼續閱讀..
產線增不停!台積電 2 奈米未演先轟動、有爆發性需求 作者 Atkinson|發布日期 2024 年 01 月 19 日 10:40 | 分類 AI 人工智慧 , 半導體 , 晶圓 | edit 台積電在 18 日法說會宣布,2 奈米市場需求強勁,原規劃兩座廠的高雄園區,將再增加一座廠。新竹寶山原是 2 奈米廠規劃地點,高雄再增加一廠,中科土地也規劃為 2 奈米廠,可看出未量產的台積電 2 奈米製程受市場青睞的程度,也證明台積電對 2 奈米製程的信心。 繼續閱讀..
從 CES 看 AI PC 供應鏈廠商!大摩:換機潮時間有待觀察 作者 姚 惠茹|發布日期 2024 年 01 月 16 日 10:10 | 分類 AI 人工智慧 , 半導體 , 晶片 | edit 美國拉斯維加斯最大國際消費性電子展 CES 甫落幕,全球科技大廠今年最大的主軸就是 AI 人工智慧,並展示許多 AI PC 產品,大摩最新報告指出,搭載高通 Elite X 的 HP、聯想產品,台灣組裝廠主要是緯創,而戴爾的主要組裝廠是仁寶,至於 NVIDIA(輝達)B100 則預估年底將大量生產。 繼續閱讀..
台積電 2 奈米製程進展順利,寶山 P1 廠最快第二季初設備安裝 作者 Atkinson|發布日期 2024 年 01 月 16 日 7:00 | 分類 公司治理 , 半導體 , 國際觀察 | edit 根據市場消息指出,晶圓代工龍頭台積電預計自 2 奈米製程開始採用 GAA(全柵極環繞)架構的計畫將如期執行。現階段位於新竹科學園區的寶山 P1 晶圓廠,預計最快將在 2024 年的 4 月份開始進行設備安裝的工程,這也將使得 P2 工廠和高雄工廠都將於 2025 年開始生產 GAA 架構的 2 奈米製程技術。 繼續閱讀..
ASML 高層傳來台,法人:估與台積電討論未來合作 作者 中央社|發布日期 2024 年 01 月 09 日 11:45 | 分類 半導體 , 晶圓 , 材料、設備 | edit ASML 執行長韋尼克和即將接任總裁暨執行長的商務長福克傳出近日將率團來台,拜訪台積電等供應鏈夥伴。法人表示,ASML 高層此行是例行性拜訪,與台積電等供應鏈討論未來合作事宜。 繼續閱讀..
台積電法說前夕,傳 ASML 高層將來台拜訪 作者 MoneyDJ|發布日期 2024 年 01 月 08 日 13:30 | 分類 半導體 , 國際貿易 , 晶圓 | edit 晶圓代工龍頭台積電 18 日法說會召開在即,業界傳出,半導體微影設備製造龍頭艾司摩爾(ASML)現任商務長、下一任執行長兼總裁富凱(Christophe Fouquet)近日將率高層來台拜訪台積電與供應商,目的在於討論 EUV(極紫外光)設備供應與發展、下世代機台相關規劃,凸顯雙方在先進製程的未來將持續緊密合作。 繼續閱讀..
拜登出手?ASML:部分 DUV 設備出口執照遭撤銷 作者 MoneyDJ|發布日期 2024 年 01 月 02 日 10:40 | 分類 半導體 , 國際貿易 | edit 荷蘭半導體設備業龍頭艾司摩爾(ASML Holding N.V.)宣布,某些設備的出口執照已遭荷蘭政府部分撤銷。 繼續閱讀..
趕出貨?中國 11 月荷蘭微影設備進口額飆升 10 倍 作者 MoneyDJ|發布日期 2023 年 12 月 26 日 11:30 | 分類 中國觀察 , 半導體 , 國際貿易 | edit 中國 11 月從荷蘭進口的晶片製造微影設備總值激增了 1,050%,當月進口的微影設備幾乎都來自荷蘭及日本。從均價推測,這些設備似乎都偏高階。 繼續閱讀..
Canon:奈米壓印降低先進製程生產成本,拉近與 ASML 差距 作者 Atkinson|發布日期 2023 年 12 月 26 日 7:10 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片 | edit 全球曝光機生產大廠之一日本佳能 (Canon),10 月 13 日宣布推出 FPA-1200NZ2C 奈米壓印 (NIL) 半導體設備後,日前執行長御手洗富士夫表示,新奈米壓印技術為小型半導體商生產先進晶片開闢新道路,不讓先進晶片技術由大型半導體商獨享。 繼續閱讀..
ASML 交貨英特爾首套 High-NA EUV 曝光機,總價逾 3 億美元 作者 Atkinson|發布日期 2023 年 12 月 22 日 10:00 | 分類 半導體 , 晶圓 , 會員專區 | edit 曝光機大廠 ASML 21 日宣布,已運送業界首套數值孔徑為 0.55(High-NA)極紫外線(EUV)曝光機給英特爾。英特爾之前表示,首套 High-NA EUV 曝光機將用於學習如何生產 Intel 18A 先進製程,有望使英特爾領先對手台積電和三星。 繼續閱讀..
英特爾採購六套 High-NA EUV 曝光機給 2 奈米製程用 作者 Atkinson|發布日期 2023 年 12 月 19 日 18:00 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片 | edit 韓國三星日前與荷蘭半導體設備商 ASML 簽署了價值 1 兆韓圜(約 7.55 億美元)的協議,兩家公司將在韓國投資建造半導體晶片研究工廠,並將在該研究工廠開發新一代 EUV 半導體製造技術。三星電子副董事長兼設備解決方案部門負責人 Kyung Kye-hyun 強調,兩家公司的最新協議將幫助其獲得下一代 High-NA EUV 曝光機。 繼續閱讀..
ASML、三星建研發中心,韓媒:對下代記憶體製程開發很重要 作者 林 妤柔|發布日期 2023 年 12 月 14 日 15:54 | 分類 半導體 , 晶圓 , 會員專區 | edit 韓國三星電子和荷蘭半導體設備龍頭 ASML 已簽署備忘錄,將共同投資 7 億歐元,在韓國打造半導體技術研發中心,目標是開發下一代 EUV 曝光技術的超精細製程和設備。 繼續閱讀..
ASML 與三星簽署備忘錄,韓國建立研究中心 作者 Atkinson|發布日期 2023 年 12 月 13 日 7:30 | 分類 半導體 , 晶圓 , 會員專區 | edit 半導體曝光機大廠 ASML 宣布,與韓國三星電子簽署備忘錄,共同投資 1 兆韓圜(約新台幣 230 億元)建立研究中心,並用下一代極紫外(EUV)曝光機研究先進半導體製程技術。ASML 也宣布與 SK 海力士簽署 ESG 備忘錄,雙方在環境、社會和公司治理專案合作。 繼續閱讀..
曝光機三強競爭,NIKON 將推新沉浸式曝光機搶市 作者 Atkinson|發布日期 2023 年 12 月 09 日 9:15 | 分類 會員專區 , 材料、設備 , 零組件 | edit 日本科技大廠 NIKON 消息,2024 年 1 月將發表 ArF 沉浸式曝光機 NSR-S636E,為半導體生產過程關鍵層曝光系統,生產效率更高,並具高水準套印精準度和生產速度。 繼續閱讀..
韓國、荷蘭將組晶片聯盟?尹錫悅擬訪問 ASML 作者 MoneyDJ|發布日期 2023 年 12 月 08 日 15:05 | 分類 半導體 , 國際貿易 , 晶圓 | edit 韓國總統尹錫悅(Yoon Suk Yeol)辦公室 7 日宣布,總統 12 月 11~14 日赴荷蘭進行國是訪問時,將尋求合組「晶片聯盟」。 繼續閱讀..