目標將次世代半導體(晶片)國產化,由日本官民合作設立的半導體研發/製造/銷售公司 Rapidus 正在北海道打造 2 奈米(nm)晶片工廠,目標 2027 年量產,而據悉 Rapidus 決定在 2024 年底導入「EUV」(極紫外光)微影設備,且將派員至荷蘭半導體設備業龍頭艾司摩爾(ASMLHolding)學習 EUV 技術。 繼續閱讀..
Rapidus 2 奈米廠傳 2024 年底導入EUV,派員至 ASML 學習技術 |
| 作者 MoneyDJ|發布日期 2023 年 12 月 06 日 11:00 | 分類 半導體 , 晶片 , 材料、設備 |



