挑戰 ASML,日本半導體設備大廠 Canon 宣布開賣採用「奈米壓印(Nano-imprint Lithography,NIL)」技術的微影設備,可用來生產 5 奈米(nm)晶片,且經過改良,將可進一步用來生產 2nm 晶片。
挑戰 ASML?Canon 開賣 NIL 微影設備,可生產 2 奈米晶片 |
| 作者 MoneyDJ|發布日期 2023 年 10 月 16 日 9:02 | 分類 半導體 , 晶片 , 材料、設備 |
ASML 台灣啟動菁英獎學金申請計畫,最高實習獎金達 30 萬元 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2023 年 10 月 12 日 16:30 | 分類 人力資源 , 半導體 , 會員專區 | edit |
半導體微影曝光設備大廠艾司摩爾 (ASML) 宣布,2023 年菁英獎學金計畫 (2023 ASML Elite Scholarship) 申請開始起跑,只要是本國國籍,正在攻讀計畫規定「工程學類」或「商業管理」碩士學位的學生,相關成績符合申請標準,就有 8 位學生有機會接受 ASML Mentor導師學生培訓、EF 英語線上課程以及擔任校園大使深入了解產業知識,有機會獲得最高實習獎金新台幣 30 萬元。
