美國國防部 1 月 31 日依《2021 財年國防授權法》(National Defense Authorization Act for Fiscal Year 2021)再度更新「中國軍事企業名單」(List of People′s Republic of China Military Companies),中微公司、中國電信、長江存儲、曠視科技等中國指標廠商皆名列其中。 繼續閱讀..
Category Archives: 材料、設備
ASML:Hyper-NA EUV 為半導體下個十年重要變化,但關鍵在成本 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2024 年 02 月 17 日 15:20 | 分類 半導體 , 會員專區 , 材料、設備 |
縮小晶片的電晶體尺寸,這對於晶片性能的持續發展至關重要。因此,半導體產業正在研究各種方法來縮小電晶體的尺寸。未來幾年,晶片製造商將採用 ASML 最新的 High-NA EUV 微影曝光設備,藉以進行 3 奈米後製造節點的技術發展。但接下來呢? ASML 表示,目前正在發展 Hyper-NA,並尋找尚未定義的新工具,這些工具將在 2030 年之際開始獲得採用,為未來的晶片生產技術提供動力。
供應有限但長期需求成長,雅寶稱鋰價走低「不永續」 |
| 作者 Daisy Chuang|發布日期 2024 年 02 月 16 日 7:50 | 分類 會員專區 , 材料、設備 , 鋰電池 |
認為現在的鋰價格走低是「不永續(unsustainable)」,最大鋰礦生產商雅寶(Albemarle)指出,鋰價應上漲推動投資,才可以滿足長期的鋰需求成長。




