Category Archives: 零組件

拓墣觀點》工業電腦 AI 應用商機探索
作者 |發布日期 2021 年 06 月 15 日 7:30 |
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分類 AI 人工智慧 , 會員專區 , 軟體、系統

「圖像處理」（靜態）如瑕疵檢測技術等已大量商用，並於未來伴隨 AIoT 深化釋放巨量應用潛力，推升 IPC 設備需求。「影像處理（動態）」如人流分析技術等，伴隨動態偵測等需求於垂直領域漸盛，勢必推升技術迅速進步和 IPC 設備需求。 繼續閱讀..

松下計畫將拍賣姬路 8.5 代工廠設備，逐步退出顯示事業
作者 |發布日期 2021 年 06 月 14 日 10:50 |
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分類 公司治理 , 會員專區 , 電視
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日前日本松下液晶顯示器株式會社 （PLD） 決定，將於 2021 年底前退出液晶面板業務，並拍賣日本兵庫縣姬路市的 8.5 代工廠生產設備。包括約 1,000 台生產設備，總拍賣設備數量多達 9,000 項，也包含不僅用於半導體及液晶面板製造，其他產業也可用的儀器等。

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拓墣觀點》2022 年中國 4K、8K 應用市場規模有望突破 800 億美元
作者 |發布日期 2021 年 06 月 14 日 7:30 |
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分類 5G , 會員專區 , 網路

中國將 4K、8K 影像技術作為繼數位化後新一輪重大資訊科技的變革，故推進 4K、8K 高解析影像與 5G、AI、VR / AR、雲端運算等技術融合應用，並且快速向各產業、各領域縱深發展，尤其是在醫療、工業、安防等產業中已形成推而廣之的總體建設格局。 繼續閱讀..

iPhone 13 系列現身歐盟 EEC 資料庫，小瀏海螢幕規格底定
作者 |發布日期 2021 年 06 月 13 日 10:30 |
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分類 Apple , iPhone , 會員專區

即便還有好幾個月，但外界都對蘋果（Apple）的 iPhone 13 系列的外觀規格都相當好奇；根據先前的傳聞指出，今年將推出的 iPhone 13 系列可能會有較小的瀏海設計方式。根據蘋果提交歐盟 EEC 的規格顯示，今年 iPhone 13 系列瀏海的確顯著縮小。

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航運美中塞港＋電子庫存回補！法人看好兩大類股短線有撐
作者 |發布日期 2021 年 06 月 11 日 17:39 |
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分類 交通運輸 , 會員專區 , 證券

台股受到 5 月營收公布與消息面影響，持續橫向盤整，11 日開高走高，終場指數收紅 54.3 點，漲幅 0.32%，收在 17,213.52 點，周線收紅。富蘭克林華美投信認為，5 月營收表現較佳的產業，像是半導體、IC 設計、鋼鐵和航運等，短線類股良性輪漲，後續建議逢低分批布局低價股。

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快篩千餘人均呈陰性，旺宏預防性檢測完成
作者 |發布日期 2021 年 06 月 11 日 15:15 |
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分類 公司治理 , 會員專區 , 記憶體

因應陸續發生的外籍移工新冠肺炎確診事件，及為確保員工健康與工作環境安全，並響應政府鼓勵企業針對移工進行快篩檢測，記憶體大廠旺宏以自有經費，自 6/9~6/10 針對外籍員工，以及居住地緣或工作而有潛在感染風險之同仁、外包廠商駐廠人員等約一千餘人展開預防性防疫快篩作業，所有人員的快篩檢測結果全數呈現陰性。

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以核養綠，今年鈾將大短缺？傳避險基金爆買坐等漲勢
作者 |發布日期 2021 年 06 月 11 日 9:45 |
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分類 材料、設備 , 理財 , 財經

減少化石燃料，改用清淨能源成了全球共識，有避險基金預測，此趨勢會讓核能再次大行其道，出手爆買核電的原料──鈾。Anchorage 眼光獨到，是電影商米高梅控股（MGM Holdings）大股東，今年 5 月亞馬遜併購米高梅大賺一筆，帳面獲利高達 20 億美元。

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鴻海宣布以 7.8 億元入股 DNeX，深化半導體、電動車布局
作者 |發布日期 2021 年 06 月 10 日 21:43 |
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分類 公司治理 , 晶圓 , 晶片

5 月底曾傳出鴻海計畫入股馬來西亞科技公司 Dagang Nexchange（DNeX），擴大 8 吋晶圓產線佈局，強化半導體供應鏈，且也有利鴻海電動車布局。而鴻海在今日晚間公告，以 1.08 億令吉（約新台幣 7.8 億元）投資馬來西亞科技公司 DNeX，不僅強化半導體、電動車布局，也藉此結盟擴大東協其他投資機會。

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ASML 第二代 EUV 曝光機開發傳瓶頸，神隊友救援力拚原時程問世
作者 |發布日期 2021 年 06 月 10 日 14:00 |
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分類 晶片 , 會員專區 , 材料、設備

極紫外光曝光機（EUV）目前是先進半導體製程，不論 DRAM 或晶圓代工生產提升效能的關鍵。荷蘭商艾司摩爾（ASML）是全球唯一量產 EUV 曝光機的廠商，台積電、三星、英特爾先進製程都依賴 EUV 曝光機生產。現階段每台曝光機單價將近 1.5 億美元，但 ASML 的 EUV 曝光機目前出貨都是光源波長 13.5 奈米左右的第一代產品，物鏡 NA 數孔徑是 0.33，據 ASML 表示，第二代 EUV 曝光機已進入開發階段。

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