荷蘭半導體設備龍頭艾司摩爾(ASML)新任執行長 Christophe Fouquet 於 19 日在比利時安特衛普舉行的 imec 研討會上表示,首批採用次世代高數值孔徑極紫外光(High-NA EUV)曝光機製造的晶片,預計將在未來幾個月內正式交付。這代表著半導體製造技術即將進入全新里程碑,也回應了市場對於該項昂貴技術可行性的疑慮。
首批涵蓋邏輯與記憶體 High-NA EUV 晶片即將交貨,ASML 反駁台積電昂貴之說 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2026 年 05 月 20 日 8:00 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片 |



