因應陸續發生的外籍移工新冠肺炎確診事件，及為確保員工健康與工作環境安全，並響應政府鼓勵企業針對移工進行快篩檢測，記憶體大廠旺宏以自有經費，自 6/9~6/10 針對外籍員工，以及居住地緣或工作而有潛在感染風險之同仁、外包廠商駐廠人員等約一千餘人展開預防性防疫快篩作業，所有人員的快篩檢測結果全數呈現陰性。
Category Archives: 晶片
Adobe 支援蘋果 M1 晶片，iPad 版 Photoshop 開放支援更新 |
作者
邱 倢芯|發布日期
2021 年 06 月 10 日 17:25 |
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Adobe 於 6 月發表 Creative Cloud 一系列更新，除了為 iPad 版 Photoshop 及 Adobe Camera Raw 帶來自訂工具外，亦將多功能行動相片編輯應用程式 Photoshop Express 導入相片修飾功能，滿足用戶編輯社交媒體相片的需求。此外， Premiere Pro Beta 版、Illustrator 及 InDesign 現在也支援蘋果（Apple）M1 裝置，並帶來多項效能提升。
ASML 第二代 EUV 曝光機開發傳瓶頸，神隊友救援力拚原時程問世 |
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作者
Atkinson|發布日期
2021 年 06 月 10 日 14:00 |
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極紫外光曝光機（EUV）目前是先進半導體製程，不論 DRAM 或晶圓代工生產提升效能的關鍵。荷蘭商艾司摩爾（ASML）是全球唯一量產 EUV 曝光機的廠商，台積電、三星、英特爾先進製程都依賴 EUV 曝光機生產。現階段每台曝光機單價將近 1.5 億美元，但 ASML 的 EUV 曝光機目前出貨都是光源波長 13.5 奈米左右的第一代產品，物鏡 NA 數孔徑是 0.33，據 ASML 表示，第二代 EUV 曝光機已進入開發階段。
