半導體微影設備大廠艾司摩爾 (ASML) 發布聲明表示,英特爾晶圓代工 (Intel Foundry) 已成功在生產環境中部署 ASML 的高數值孔徑極紫外光 (High NA EUV) 技術,並正式投入高量產階段。
ASML 宣布英特爾採用 High NA EUV 的 Intel 18A 製程進入高量產階段 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2026 年 07 月 15 日 13:50 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片 |



