Tag Archives: 半導體設備

家登 2022 年營收年增 44%，預計 2023 年將持續成長
作者 |發布日期 2023 年 01 月 10 日 13:30 |
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分類 半導體 , 會員專區 , 材料、設備

晶圓代工龍頭台積電重要供應商之一，光罩與晶圓保護運輸方案整合服務商家登公布 2022 年 12 月營收，集團合併營收約為新台幣 6.48億元，續創歷史新高峰，較 2021 年同期成長約 60%，全年度累計合併營收高達 44.9 億元，與 2021 年相比成長約 44%。

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管制中國半導體設備態度動搖？美國有機會許可合肥長鑫先進製程出口
作者 |發布日期 2023 年 01 月 10 日 10:45 |
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分類 中國觀察 , 半導體 , 會員專區

2022 年 10 月美國全面管制中國半導體發展禁令，限制中國採購 DRAM 18 奈米以下先進製程設備，近期市場傳出中國記憶體大廠合肥長鑫 (CXMT) 向美國商務部申請特別出口許可有機會通過，代表美國對管制中國先進半導體生產設備的態度產生動搖嗎？實際情況恐非如此。

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美新晶片禁令奏效，中國 11 月半導體設備進口銳減
作者 |發布日期 2022 年 12 月 23 日 10:49 |
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分類 中國觀察 , 半導體 , 會員專區

美國在 10 月時祭出新的禁令，防止中國獲得先進半導體技術或設備，此舉也讓中國 11 月半導體設備進口銳減。外媒報導，根據中國海關總署的數據，中國今年 11 月進口的晶片製造設備與去年同期相比下降 40%，創下 2020 年 5 月以來最低紀錄。

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美國聯合荷、日將嚴控成熟製程設備出口中國，衝擊中國半導體甚大
作者 |發布日期 2022 年 12 月 13 日 9:40 |
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分類 中國觀察 , 半導體 , 會員專區

外媒報導，日本和荷蘭原則上同意美國，共同加強限制出口中國先進晶片製造設備，市場人士表示，這次限制 16 奈米節點製程沉浸式深紫外光微影曝光設備 (DUV)，雖用於 16 奈米節點製程，但業界廣泛用於 40 奈米成熟製程到 7 奈米以下先進製程，甚至部分用於 5 奈米製程。美國成功號召荷蘭與日本廠商加入限制行列，代表中國 40 奈米以下設備都將很難取得，對產業發展阻礙甚大。

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中國讓步，同意美國商務部檢查長江存儲
作者 |發布日期 2022 年 12 月 08 日 14:10 |
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分類 中國觀察 , 半導體 , 國際貿易

英國《金融時報》報導，美國政府表示中國政府同意讓步，允許美國對 10 月列入未經核實名單的中國高科技公司出口管制檢查，似乎要確保中國 3D NAND Flash 供應商長江存儲不會被列入出口限制實體清單，嚴重損害從美國企業採購半導體設備。

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荷蘭不願限制中國出口統一口徑，美國持續施壓
作者 |發布日期 2022 年 12 月 05 日 15:10 |
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分類 半導體 , 國際貿易 , 會員專區

外媒報導，半導體微影曝光設備大廠荷蘭商艾斯摩爾 (ASML) 持續受美國政府施壓，要求 ASML 限制出口微影曝光設備至中國。發言人表示，由於荷蘭各種出口限制，使 ASML 自 2019 年一直無法出口中國最先進 EUV 微影曝光設備，但新出口管制措施對 ASML 2023 年整體出貨計畫衝擊有限。

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東京威力科創台南營運中心動土，預計 2024 年完工
作者 |發布日期 2022 年 11 月 25 日 17:50 |
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分類 公司治理 , 半導體 , 晶圓

全球前三大半導體生產設備商東京威力科創 (Tokyo Electron) 在台子公司 25 日舉行台南營運中心動土典禮，工程預計 2024 年下半年完工，預計中心面積約 35,000 平方公尺，未來除了擴大營業規模，台南營運中心落成後，也將成為東京威力科創投入生產、人才培育及推動產業發展的重鎮。

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