日本政府 2019 年 7 月加強對南韓的出口管制後迄今近兩年,為了對抗日本出口管制,南韓政府祭出「去日本化」措施,力拚將材料、半導體設備等對日本依賴度高的品項國產化,只不過南韓的半導體設備「去日本化」之路仍遠,南韓對日本的貿易逆差額大增。 繼續閱讀..
半導體設備「去日本化」之路仍遠!韓對日逆差額大增 |
| 作者 MoneyDJ|發布日期 2021 年 06 月 28 日 11:25 | 分類 國際金融 , 晶圓 , 晶片 |

ASML 第二代 EUV 曝光機開發傳瓶頸,神隊友救援力拚原時程問世 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2021 年 06 月 10 日 14:00 | 分類 晶片 , 會員專區 , 材料、設備 | edit |
極紫外光曝光機(EUV)目前是先進半導體製程,不論 DRAM 或晶圓代工生產提升效能的關鍵。荷蘭商艾司摩爾(ASML)是全球唯一量產 EUV 曝光機的廠商,台積電、三星、英特爾先進製程都依賴 EUV 曝光機生產。現階段每台曝光機單價將近 1.5 億美元,但 ASML 的 EUV 曝光機目前出貨都是光源波長 13.5 奈米左右的第一代產品,物鏡 NA 數孔徑是 0.33,據 ASML 表示,第二代 EUV 曝光機已進入開發階段。
