Tag Archives: 半導體設備

這設備 30 年前問世至今仍在使用,助 ASML 登上半導體微影曝光龍頭

作者 |發布日期 2021 年 05 月 16 日 10:30 | 分類 IC 設計 , 晶圓 , 晶片

不論是極紫外光微影曝光設備 (EUV) 或是深紫外光微影曝光設備 (DUV),當前都被廣泛用在邏輯晶片與記憶體生產上,可說是當前半導體製程中不可或缺的關鍵設備。而在這些設備的生產當中,荷蘭商艾司摩爾 (ASML) 則在其中扮演了至關重要的角色。只是,當時落後競爭對手的 ASML,如何能成為今天半導體微影曝光設備上的霸主,其關鍵就在當年的 PAS 5500 機台上。

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滿足台積電減碳績效採購標準,家登矽晶圓運盒積極進行認證中

作者 |發布日期 2021 年 04 月 27 日 17:15 | 分類 公司治理 , 會員專區 , 材料、設備

就在晶圓代工龍頭台積電丟出採購規定的震撼彈,準備將供應鏈碳足跡及減碳績效列入公司採購重要指標之際,身為台積電 EUV 光罩盒重要供應商的家登,目前也正在尋求台積電、中美晶、環球晶等客戶的認證,透過在地化的生產優勢,達到減碳績效,以其順利達成供應鏈減碳的目標。

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家登在地投資,未來 5 年投資台幣 50 億創造最多 1,500 個就業機會

作者 |發布日期 2021 年 04 月 27 日 14:30 | 分類 人力資源 , 公司治理 , 晶圓

晶圓代工龍頭台積電的 EUV 光罩盒供應大廠家登 27 日舉行土城新廠房的動土典禮,該新廠房以子公司「家崎」為名,總計將分兩期投資,第 1 期預計總廠房面積達 5,000 坪,第 2 期則預計將達到 15,000 坪,兩期投資額預計 5 年內將斥資新台幣 50 億元,並將增加 1,200~1,500 個就業機會的情況下,最快產能將袃 2~3 年內開出。

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張忠謀說三星仍是台積電最大對手,近期半導體設備就搶輸三星?

作者 |發布日期 2021 年 04 月 23 日 16:30 | 分類 公司治理 , 國際貿易 , 晶圓

就在日前台積電創辦人張忠謀演講時坦承,目前三星仍是台積電最大競爭對手,顯示台積電目前與三星的競爭仍激烈進行。據南韓媒體報導,台積電與三星的競爭目前在採購半導體領域持續進行。台積電與三星都積極布局擴產當下,三星卯足全力搶購相關半導體設備,且近期採購設備比例超越台積電。

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艾司摩爾 2021 年首季營收 44 億歐元達標,全年營收預估成長 30%

作者 |發布日期 2021 年 04 月 21 日 15:10 | 分類 國際貿易 , 會員專區 , 材料、設備

在當前全面臨晶片花的情況下,全球半導體微影技術大廠艾司摩爾 (ASML) 台北時間 21 日發佈 2021 年第 1 季,2021 年第 1 季銷售淨額 (net sales) 為 44 億歐元,淨收入 (net income) 為 13 億歐元,毛利率 (gross margin) 為 53.9%,新增訂單金額 47 億歐元。另外,針對 2021 年第 2 季展望,艾司摩爾預估淨收入約落在 40 億到 41 億歐元間,毛利率約 49%。

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晶片荒下艾司摩爾將公布首季財報,美國收緊出口中國成發展關鍵

作者 |發布日期 2021 年 04 月 21 日 8:30 | 分類 會員專區 , 材料、設備 , 財報

上週晶圓代工龍頭台積電宣布 2021 年度資本支出推升至史上新高的 300 億美元,市場預估半導體設備廠未來都能受惠,投資人也都將眼光放到接下來的設備廠財報。全球最大半導體設備供應商艾司摩爾 (ASML) 預計美國時間 21 日公布首季財報,目前全球面臨晶片缺乏,艾司摩爾財報能透露什麼訊息,牽動全球半導體市場,投資人都引頸期待。

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美國恐進一步限制 DUV 出口中國,三星與 SK 海力士憂受衝擊

作者 |發布日期 2021 年 04 月 13 日 17:50 | 分類 國際貿易 , 晶片 , 會員專區

針對全球性的晶片缺貨問題,美國拜登政府才在 14 日邀集包括美國歐半導體設備大廠,汽車製造廠商、台灣台積電與南韓三星等重量級晶圓代工廠共同參加會議,以討論解決由美國所主導的半導體供應鏈失衡的情況。而在此同時,南韓媒體報導,面對中國積極發展半導體產業的態度,美國政府恐怕不僅將禁止極紫外光(EUV)曝光機的出口到中國,恐怕連浸潤式 ArF 深紫外光(DUV)曝光設備都將被列入禁止出口中國品項。

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與台積電、英特爾搶設備,三星疫情下派官員出訪歐美半導體設備商

作者 |發布日期 2021 年 04 月 12 日 16:00 | 分類 Samsung , 國際貿易 , 晶圓

隨著台積電與英特爾積極擴大投資的動作,預計將造成全球半導體設備的搶購風潮。對此,南韓三星開始感到壓力,近期紛紛派遣高層在武漢肺炎疫情尚未緩解的情況下,出國拜訪包括艾司摩爾 (ASML)、應用材料 (Applied Materials)、科林研發 (Lam Research) 等設備大廠,以爭取在未來競爭半導體設備之際,不會處於落後的位置上。

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晶片設備股夯,應材、Brooks、ASML 同創歷史收盤新高

作者 |發布日期 2021 年 04 月 06 日 12:45 | 分類 晶圓 , 晶片 , 材料、設備

Barron’s 5 日報導,瑞士信貸分析師 John Pitzer 週日將半導體設備大廠應用材料(Applied Materials)目標價自 145 美元調高至 175 美元,稱投資人不該將 6 日登場的法說會視為利多出盡。他說,擴大晶片產能變得非常昂貴,長期而言應材每股盈餘將可突破 10 美元。 繼續閱讀..

台灣晶片斷供一年衝擊全球 14 兆損失,各國大規模建產線取代不可行

作者 |發布日期 2021 年 04 月 05 日 10:15 | 分類 國際觀察 , 晶圓 , 晶片

近期全球晶片缺貨潮,加上美中貿易爭端,還有天然與人為災害衝擊,都使晶片供應備受產業界矚目。據美國半導體行業協會(SIA)最新研究數據顯示,晶片生產越來越集中化,台灣又位居關鍵地位,如果台灣受限制無法生產供應晶片,全球相關產業營收一年將損失 5,000 億美元(約新台幣 14 兆元)。

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漢民通知客戶員工染疫,廠區已完成消毒恢復運作

作者 |發布日期 2021 年 04 月 01 日 12:20 | 分類 公司治理 , 會員專區 , 材料、設備

位在竹科的國內半導體設備大廠漢民,31 日針對客戶主動發出通知信表示,公司內因為一名員工染疫,是為中央流行疫情指揮中心公布的案 1026。對此,漢民也在第一時間啟動疫情緊急應變行動小組,除了完成廠區的全面清潔消毒之外,也進行相關接觸者的疫調與居家隔離措施。公司也強調,在隔離者皆為漢民內部研發及內勤員工,非第一線接觸客戶者的情況下,目前廠區已經恢復正常運作。

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ASML:摩爾定律沒有減速或失效,還將持續 10 年或更久時間

作者 |發布日期 2021 年 03 月 29 日 17:40 | 分類 晶圓 , 會員專區 , 材料、設備

眾所周知,荷蘭商艾司摩爾(ASML)曝光機一直是半導體製造的關鍵設備,尤其獨家生產的極紫外光曝光機(EUV)更是不可或缺,也是協助台積電、三星、英特爾能往先進製程發展的重要設備,美國限制中國無法取得 EUV,使中國半導體發展始終落後其他國家。

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