外媒報導,荷蘭 8 日表示,半導體技術出口將有新管制,於夏天前實施。微影曝光設備大廠艾司摩爾 (ASML) 隔天宣布,深紫外光微影曝光設備 (DUV) 必須申請許可證才能出口。
荷蘭管制 DUV 出口,限制對準精度 2.5 奈米以上設備 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2023 年 03 月 21 日 8:30 | 分類 半導體 , 晶圓 , 會員專區 |
艾司摩爾第二季營收創新高,全年營收預計成長 10% |
| 作者 Atkinson|發布日期 2022 年 07 月 20 日 15:30 | 分類 半導體 , 會員專區 , 材料、設備 | edit |
半導體體設備廠艾司摩爾 (ASML) 發表第二季財報,銷售淨額 (net sales) 為 54 億歐元,淨收入 (net income) 達 14 億歐元,毛利率 (gross margin) 49.1%,新增第二季訂單金額 85 億歐元。ASML 同時公布第三季財測,預估淨收入約 51 億至 54 億歐元,毛利率約 49%~50%,預計全年銷售額成長 10% 左右。2022 年增加快速出貨將導致收入延遲認列,從約 10 億歐元增加到約 28 億歐元,延遲至 2023 年認列。
烏俄衝突影響半導體氣體供應,晶片生產成本恐上漲 |
| 作者 TechNews|發布日期 2022 年 02 月 15 日 17:35 | 分類 國際貿易 , 晶片 | edit |
烏克蘭為半導體原料氣體供應大國,包含氖、氬、氪、氙等,
ASML 德國柏林廠火災,恐衝擊 EUV 光學零組件供應 |
| 作者 TechNews|發布日期 2022 年 01 月 05 日 14:10 | 分類 光電科技 , 晶圓 , 記憶體 | edit |
ASML 德國柏林工廠 3 日發生火警。ASML 為晶圓代工及記憶體生產關鍵設備機台(含 EUV 與 DUV)最大供應商,TrendForce 初步了解,占地 32,000 平方公尺的柏林廠區,約 200 平方公尺廠區受火災影響,主要製造光刻機光學零組件,如晶圓台、光罩吸盤和反射鏡,固定光罩的光罩吸盤處於緊缺狀態。零組件以供應 EUV 機台較多,且以晶圓代工需求占多數。若屆時因火災使零組件交期延後,不排除 ASML 將優先分配主要產出支援晶圓代工訂單的可能性。
