Tag Archives: Nikon

半導體先進製程發展擴大 EUV 市場需求,ASML 可望持續受惠

作者 |發布日期 2019 年 06 月 10 日 9:00 |
分類 光電科技 , 國際貿易 , 晶片

先進製程奈米節點持續微縮下,光刻機是重要關鍵設備。12 吋晶圓主要光刻機為 ArF immersion 機台,可涵蓋 45nm 一路往下到 7nm 節點的使用範圍,雷射光波長最小微縮到 193nm;針對 7nm 節點以下製程,EUV(Extreme Ultra-Violet)極紫外光使用光源波長為 13.5nm,確保先進製程持續發展的可能性。 繼續閱讀..

ASML 2018 年營收創新高,EUV 2019 年將出貨 30 台為成長主力

作者 |發布日期 2019 年 01 月 25 日 12:10 |
分類 國際貿易 , 晶圓 , 晶片

在晶圓龍頭台積電推向 7 奈米製程,甚至在 2020 年將要推出 5 奈米製程的情況下,極紫外光刻設備(EUV)就成為製程其中不可或缺的設備。而全球幾乎獨攬這項設備生產的荷蘭商艾司摩爾(ASML)也因為市場需求的持續不斷,使得 2018 年全年的營收創新高紀錄。

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數位相機銷售遜,調降單眼年度目標,Nikon 股價暴跌 9%

作者 |發布日期 2018 年 11 月 09 日 15:45 |
分類 數位相機 , 財報 , 財經

Nikon 8 日於日股盤後公布今年度上半年(2018 年 4~9 月)財報:數位相機銷售量雖未達預期,不過因微影設備等精機事業銷售走揚,帶動合併營收較去年同期成長 2.2% 至 3,357.48 億日圓,合併營益大增 33.1% 至 306.41 億日圓,合併純益暴增 63.7% 至 228.22 億日圓。 繼續閱讀..

主導次世代監視器標準,鴻海、Sony 等企業組 NICE 聯盟

作者 |發布日期 2018 年 03 月 07 日 8:45 |
分類 3C , AI 人工智慧 , 鏡頭

日經新聞 6 日報導,Sony、鴻海等 5 家企業宣布成立「智慧攝影機生態系統網路聯盟」(NICE Alliance,Network of Intelligent Camera Ecosystem Alliance),將於監視器的技術標準、規格制定等事項進行合作,目標是主導可隨時連網的次世代監視器技術標準、規格制訂。NICE Alliance 將制定從機器到軟體的廣範圍規格,並將以開放式平台的形式於 2018 年內對外公開。 繼續閱讀..

被智慧手機擊沉,Nikon 中國相機工廠停產或委外釋單

作者 |發布日期 2017 年 10 月 30 日 12:00 |
分類 數位相機 , 財經

Nikon 30 日發布新聞稿宣布,當日召開的董事會決議,旗下位於中國江蘇省無錫市,生產輕便型數位相機及單眼相機用鏡頭的連結子公司 Nikon Imaging(China) Co., Ltd.(以下簡稱 NIC)將進行停產措施,主因智慧手機普及,輕便型數位相機市場急速萎縮,導致 NIC 稼動率顯著低下,極難持續進行生產營運。 繼續閱讀..

Nikon 相機業務持續虧損,傳日本政府想找 Fujifilm 來「資助」

作者 |發布日期 2017 年 06 月 08 日 15:07 |
分類 數位相機 , 財經

隨著智慧型手機拍照功能持續進步,數位相機市場逐漸縮小,日本相機大廠 Nikon 也因此受到影響,相機業務業績低迷,為了挽救局面,避免中國、南韓廠商插手,日媒傳出日本政府正在尋找能夠「資助」Nikon 的企業,曾經的底片大廠 Fujifilm 也是傳聞企業之一。 繼續閱讀..

Nikon 7 年來首陷虧損;今年度數位相機銷量恐大減 2 成

作者 |發布日期 2017 年 05 月 12 日 17:40 |
分類 數位相機 , 財經

Nikon 11 日於日股盤後公布上年度(2016 年 4 月~2017 年 3 月)財報:因數位相機銷售大減,拖累合併營收年減 8.6% 至 7,488.91 億日圓;合併營益受惠 FPD 用露光裝置銷售增加而大增 60.8% 至 509.79 億日圓;合併淨損額為 71.07 億日圓(前一個年度為純益 182.54 億日圓),為 7 年來首度陷入虧損,陷入虧損主因為祭出裁員等措施而提列 533 億日圓結構改革相關費用。 繼續閱讀..

Nikon 狀告 ASML 與夥伴 Carl Zeiss 侵權 半導體設備市場掀波瀾

作者 |發布日期 2017 年 04 月 25 日 8:30 |
分類 光電科技 , 晶片 , 材料、設備

根據 《路透社》 的報導,日本光學大廠尼康(Nikon) 於 24 日表示,已對荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾(ASML Holding NV)和合作夥伴卡爾蔡司(Carl Zeiss AG)提起法律訴訟,並表示 ASML 及 Carl Zeiss 兩家公司在未經 Nikon 的許可下將其微影(lithography)技術專利用於光刻機上,並運用在半導體製造業中。

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