Tag Archives: Nikon

單眼出貨減千萬台剩中高價位!Canon、Nikon 專攻高階相機

作者 |發布日期 2023 年 12 月 03 日 11:40 | 分類 3C , 3C周邊 , 國際貿易

後疫情時代,消費者有更多的機會出門拍照,相機市場呈現復甦趨勢,但相較 2019 年全球相機出貨量仍有約 1,500 萬台,今年前 9 月僅剩不到 500 萬台,而且平均售價翻倍,背後代表的是平價相機市場已被手機取代,Canon、Nikon、富士全都投向高單價的中高階機種。

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俄羅斯將生產曝光機,2024 年 350 奈米,2026 年生產 65 奈米

作者 |發布日期 2023 年 11 月 04 日 12:00 | 分類 IC 設計 , 半導體 , 晶圓

根據俄羅斯媒體報導指出,俄羅斯本身正在研發生產晶片的微影曝光機。其工業和貿易部副部長 Vasily Shpak 在接受媒體訪問時指出,2024 年將開始生產 350 奈米微影曝光機,2026年啟動用於生產 130 奈米製程晶片的微影曝光機。其生產將在莫斯科、澤列諾格勒、聖彼得堡和新西伯利亞的現有工廠進行。

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曝光機受影響廣泛深遠!拜登成功爭取美日荷聯手對中進行出口管制

作者 |發布日期 2023 年 01 月 28 日 14:27 | 分類 中國觀察 , 半導體 , 國際貿易

美國拜登政府 1 月 27 日與日本、荷蘭達成一項協議,三方將共同限制對中國出口部分先進的晶片製造設備,協議主要是遏制中國打造國產晶片的雄心,預估這項協議將對日本和荷蘭的廠商造成影響,包括艾司摩爾(ASML)、Nikon 和東京威力科創(Tokyo Electron Ltd)等大廠。

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Nikon 計劃推出支援 3D 半導體曝光機,目標 2026 年銷量翻倍

作者 |發布日期 2022 年 08 月 25 日 14:15 | 分類 半導體 , 材料、設備 , 零組件

日本經濟新聞報導,日本光學大廠 Nikon 計劃 2025 財年(截至 2026 年 3 月)把半導體曝光機主力機型年銷量提升至 2019~2021 財年(截至 2022 年 3 月)平均銷量 2 倍以上。預測 Nikon 以 2023 年上市、支援 3D 半導體製造的新產品為發展核心。

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ASML 登上全球半導體曝光設備龍頭,兩個轉捩點都與台積電有關

作者 |發布日期 2021 年 11 月 18 日 12:10 | 分類 公司治理 , 晶圓 , 晶片

外媒報導,半導體製程一家獨大的極紫外光曝光設備 (EUV) 廠商艾司摩爾 (ASML),幾乎成為各半導體製造商發展不可或缺的夥伴,尤其 10 奈米以下先進製程,沒有 EUV 協助幾乎不能做。ASML 如何爬上龍頭之位,有兩個關鍵轉捩點。

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