奇鋐、雙鴻、建準三大散熱廠,今年以來股價上漲 23~47%,估值擴大至本益比的 23~28 倍,而 AI 硬體設備的平均本益比為 21 倍,因此高盛最新報告調降奇鋐、建準的評級至「中性」,並維持雙鴻的「中性」評級,靜待液冷的貢獻到來。
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ASML:Hyper-NA EUV 為半導體下個十年重要變化,但關鍵在成本 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2024 年 02 月 17 日 15:20 | 分類 半導體 , 會員專區 , 材料、設備 |
縮小晶片的電晶體尺寸,這對於晶片性能的持續發展至關重要。因此,半導體產業正在研究各種方法來縮小電晶體的尺寸。未來幾年,晶片製造商將採用 ASML 最新的 High-NA EUV 微影曝光設備,藉以進行 3 奈米後製造節點的技術發展。但接下來呢? ASML 表示,目前正在發展 Hyper-NA,並尋找尚未定義的新工具,這些工具將在 2030 年之際開始獲得採用,為未來的晶片生產技術提供動力。




