韓媒《The Elec》報導,三星計劃將用於記憶體晶片製造的光罩(photomask)生產外包。之前,為了防止技術外洩,三星一直自行生產所需的全部光罩,但該公司正評估製造低階光罩(i-line 與 KrF)的潛在供應商。 繼續閱讀..
三星擬將低階光罩製造外包,聚焦 ArF、EUV 高階技術布局 |
作者 林 妤柔|發布日期 2025 年 05 月 14 日 10:13 | 分類 Samsung , 晶片 , 記憶體 |