Tag Archives: ASML

中國 7 奈米以下晶片有救？華為秀 EUV 曝光技術，外媒不看好
作者 |發布日期 2022 年 12 月 27 日 14:09 |
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分類 中國觀察 , 半導體 , 會員專區

為了降低美國晶片限令影響，華為 11 月秀出新極紫外光（EUV）曝光新技術專利，暗示生產 7 奈米以下晶片的可能性。不過外媒 Tom′s Hardware 認為，申請專利不代表能製造 EUV 設備，背後有許多廠商、最先進零組件合作，目前只有艾司摩爾（ASML）成功。 繼續閱讀..

美國聯合荷、日將嚴控成熟製程設備出口中國，衝擊中國半導體甚大
作者 |發布日期 2022 年 12 月 13 日 9:40 |
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分類 中國觀察 , 半導體 , 會員專區

外媒報導，日本和荷蘭原則上同意美國，共同加強限制出口中國先進晶片製造設備，市場人士表示，這次限制 16 奈米節點製程沉浸式深紫外光微影曝光設備 (DUV)，雖用於 16 奈米節點製程，但業界廣泛用於 40 奈米成熟製程到 7 奈米以下先進製程，甚至部分用於 5 奈米製程。美國成功號召荷蘭與日本廠商加入限制行列，代表中國 40 奈米以下設備都將很難取得，對產業發展阻礙甚大。

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荷蘭不願限制中國出口統一口徑，美國持續施壓
作者 |發布日期 2022 年 12 月 05 日 15:10 |
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分類 半導體 , 國際貿易 , 會員專區

外媒報導，半導體微影曝光設備大廠荷蘭商艾斯摩爾 (ASML) 持續受美國政府施壓，要求 ASML 限制出口微影曝光設備至中國。發言人表示，由於荷蘭各種出口限制，使 ASML 自 2019 年一直無法出口中國最先進 EUV 微影曝光設備，但新出口管制措施對 ASML 2023 年整體出貨計畫衝擊有限。

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