南韓媒體報導，三星電子副董事長李在鎔將從荷蘭商艾司摩爾 (ASML) 取得額外極紫外微影曝光設備 (EUV)，對三星下一代半導體生產至關重要。不過三星沒有透露這些額外 EUV 微影曝光設備細節。
韓媒：追趕台積電，三星李在鎔訪 ASML 取得額外 EUV |
作者
Atkinson|發布日期
2022 年 06 月 16 日 11:10 |
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Tag Archives: ASML
下世代 EUV 單一造價近 120 億元，仍為半導體廠兵家必爭之地 |
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作者
Atkinson|發布日期
2022 年 05 月 31 日 11:20 |
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外媒《Anandtech》報導，最先進晶片製造技術是 4 / 5 奈米製程，下半年三星和台積電還將量產 3 奈米製程，對使用 ASML EUV 微影曝光技術的 Twinscan NXE:3400C 及類似系統來說，因有 0.33 NA（數值孔徑）光學器件，可提供 13 奈米解析度，目前看來解析度尺寸對 7 / 6 奈米節點 (36~38 奈米) 和 5 奈米 (30~32 奈米) 單一曝光技術已足夠。隨著間距低於 30 奈米（超過 5 奈米級先進節點）時代到來，13 奈米解析度可能需雙重曝光技術，將是未來幾年內主流技術應用。
蘋果、ASML、微軟等大廠加入比利時微電子永續半導體研究計畫 |
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作者
Atkinson|發布日期
2022 年 05 月 19 日 6:00 |
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奈米電子與數位科技的創新中心-比利時微電子研究中心（imec），在於本周舉行的 2022 年未來高峰會（Future Summits 2022）上宣布，其永續半導體技術與系統（Sustainable Semiconductor Technologies and Systems，SSTS）研究計畫成功匯集了半導體價值鏈的關鍵成員，從像是蘋果、微軟等科技巨頭，到 ASM、ASML、日本 KURITA、日本 SCREEN 與東京電子（Tokyo Electron）等半導體設備商，全都參與其中。
半導體埃米時代生產利器，imec 展示最新 High-NA EUV 技術進展 |
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作者
Atkinson|發布日期
2022 年 04 月 27 日 10:40 |
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全球半導體技術研究重鎮的比利時微電子研究中心（imec），日前國際光學工程學會（SPIE）先進曝光微影成形技術會議，展示 High-NA（高數值孔徑）曝光技術的大進展，含顯影與蝕刻製程的開發、新興光阻劑與塗料測試、量測與光罩技術最佳化等。因 imec 與台積電、英特爾等國際大廠密切合作，業界預期先進製程 2025 年後進入埃米（angstorm）時代，High-NA 曝光技術將是關鍵。
