Tag Archives: EUV

半導體埃米時代生產利器,imec 展示最新 High-NA EUV 技術進展

作者 |發布日期 2022 年 04 月 27 日 10:40 | 分類 IC 設計 , 晶圓 , 晶片

全球半導體技術研究重鎮的比利時微電子研究中心(imec),日前國際光學工程學會(SPIE)先進曝光微影成形技術會議,展示 High-NA(高數值孔徑)曝光技術的大進展,含顯影與蝕刻製程的開發、新興光阻劑與塗料測試、量測與光罩技術最佳化等。因 imec 與台積電、英特爾等國際大廠密切合作,業界預期先進製程 2025 年後進入埃米(angstorm)時代,High-NA 曝光技術將是關鍵。

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應材推出運用 EUV 延展 2D 微縮與 3D 閘極全環電晶體技術

作者 |發布日期 2022 年 04 月 25 日 14:15 | 分類 IC 設計 , 晶圓 , 晶片

美商應材公司今日表示,策略是成為「PPACt 推動公司」 (PPACt enablement company)。因此,新發表七項創新技術,其目的就是要協助客戶運用 EUV 以持續進行 2D 微縮。新一代 GAA 電晶體的製造方式與當前的 FinFET 電晶體有所不同,以及應材備妥為 GAA 的製造提供業界最完整的產品組合,包括在磊晶、原子層沉積、選擇性去除材料的新步驟及兩種新整合性材料解決方案 (Integrated Materials SolutionsTM) 的情況下,藉此產生合適的 GAA 閘極氧化層與金屬閘極。

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南韓成熟製程光阻劑短缺,庫存量已低於 3 個月安全線以下

作者 |發布日期 2022 年 04 月 17 日 14:00 | 分類 國際觀察 , 晶圓 , 晶片

根據南韓科技媒體《ETnews》的報導,南韓半導體光阻劑的供需已進入緊急狀態,庫存量降到了 3 個月安全線以下。造成的原因是因為半導體成熟製程需求大幅增加,但是光阻劑的供給卻沒有同樣提升,這也使得向來依賴日本廠商供應甚深的南韓半導體產業,迄今一直無法自給自足的結果。

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Fractilia 全新隨機性誤差量測,協助晶圓廠 EUV 因應數十億美元損失

作者 |發布日期 2022 年 03 月 29 日 13:45 | 分類 晶圓 , 晶片 , 會員專區

適用於先進半導體製造的隨機性(stochastics)微影圖案誤差量測與控制解決方案業者Fractilia,3/29 宣布推出最新版本的 Fractilia 自動化量測平台(FAME),讓半導體晶圓廠得以管控因受到隨機性誤差影響甚鉅的極紫外光微影(EUV)製程所產生的良率問題,而這項挑戰損失的金額可達數十億美元。

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英特爾、台積電、三星真是 ASML 大股東,採購 EUV 有特別禮遇?

作者 |發布日期 2022 年 03 月 29 日 11:30 | 分類 國際金融 , 晶圓 , 會員專區

目前能生產 7 奈米以下晶片的極紫外光 (EUV) 曝光機,只有荷蘭商艾司摩爾 (ASML),ASML 可說是掌握全球晶片先進製程的關鍵。ASML 的 EUV 曝光機通常優先供貨給台積電、三星、英特爾三家,其他要買都要排在三家之後。但為什麼 ASML 優先賣給這三家?首先當然是三家都是大客戶,因此有特別待遇,其次為外界都認為這三家是 ASML 大股東,當然先照顧大股東。

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南韓大搶 EUV 因應半導體擴產,ASML 估至 2025 年金額成長一倍多

作者 |發布日期 2022 年 02 月 22 日 10:30 | 分類 晶圓 , 晶片 , 會員專區

南韓科技媒體《ETnews》報導,曝光設備大廠艾司摩爾 (ASML) 將 2025 年南韓極紫外 (EUV) 曝光機銷售目標提高到 147.5 億歐元 (約新台幣 4,527 億元),是 2021 年銷售金額兩倍多,可看出受惠於南韓三星和 SK 海力士大增投資,將 EUV 視為提升競爭力的重要關鍵。

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ASML 2022 年營收預估成長 20%,陸行之:以台積電資本支出計嫌保守

作者 |發布日期 2022 年 01 月 20 日 12:40 | 分類 晶圓 , 晶片 , 會員專區

微影技術與曝光機大廠艾司摩爾 (ASML) 19 日發表財報及 2022 年首季財測,前外資知名分析師陸行之指出,ASML 對 2022 年首季財測低於市場預期,原因會否是韓系記憶體大廠因記憶體跌價,希望延遲付款?也提出五大觀點,觀察接下來半導體市場的趨勢。

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英特爾搶先台積電下訂業界首部新世代 EUV,強化與 ASML 技術合作

作者 |發布日期 2022 年 01 月 19 日 22:30 | 分類 IC 設計 , 晶片 , 會員專區

為推動尖端半導體微影技術發展,微影技術與曝光機大廠艾司摩爾 (ASML) 與處理器龍頭英特爾於台北時間 19 日晚間宣布長遠合作的最新發展,為雙方長遠高數值孔徑合作案的框架內容,英特爾已向 ASML 下訂業界首部 TWINSCAN EXE:5200 系統訂單。這款具備 High-NA 極紫外光(EUV)大量生產系統,每小時有 200 片以上晶圓產能。

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