Tag Archives: EUV

佳能奈米壓印設備最快 2024 年出貨，能否解套中國引關注
作者 |發布日期 2024 年 02 月 05 日 7:00 |
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分類 半導體 , 會員專區 , 材料、設備

2023 年 10 月，日本曝光機大廠佳能（Canon）公布採用奈米壓印技術（NIL）的曝光設備 FPA-1200NZ2C，預計為小型半導體製造商在生產先進晶片開闢了一條新的途徑。近日，佳能負責新型曝光機開發的高層武石洋明接受了媒體的採訪表示，FPA-1200NZ2C 會在 2024 年至 2025 年間出貨。

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Rapidus 2 奈米廠工程順利，將按計畫於 2025 年 4 月試產
作者 |發布日期 2024 年 01 月 23 日 11:15 |
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分類 半導體 , 國際貿易 , 晶片

目標將次世代半導體（晶片）國產化、由日本官民合作設立的半導體研發 / 製造 / 銷售公司 Rapidus 位於北海道千歲市的 2 奈米（nm）晶片工廠興建工程順利，試產產線將按計畫在 2025 年 4 月啟用，Rapidus 並在千歲市開設做為聯絡窗口的事務所。 繼續閱讀..

產線增不停！台積電 2 奈米未演先轟動、有爆發性需求
作者 |發布日期 2024 年 01 月 19 日 10:40 |
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分類 AI 人工智慧 , 半導體 , 晶圓

台積電在 18 日法說會宣布，2 奈米市場需求強勁，原規劃兩座廠的高雄園區，將再增加一座廠。新竹寶山原是 2 奈米廠規劃地點，高雄再增加一廠，中科土地也規劃為 2 奈米廠，可看出未量產的台積電 2 奈米製程受市場青睞的程度，也證明台積電對 2 奈米製程的信心。

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SK 海力士中國無錫廠提升製程擴產，卡關美國禁令藉運輸解決
作者 |發布日期 2024 年 01 月 16 日 11:15 |
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分類 半導體 , 會員專區 , 記憶體

隨著記憶體市場的復甦，韓國記憶體大廠 SK 海力士也為了進行擴產做準備，目前正在藉由先前美國給予的出口限制豁免，開始對中國無錫工廠進行製程升級的動作。另外，也進一步以運輸的方式，繞過至今美國仍對中國堅守的 EUV 極紫外光曝光機出口禁令。

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大摩看好台積電 2024 年營收表現，力挺台積電 688 元目標價
作者 |發布日期 2024 年 01 月 15 日 10:10 |
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分類 半導體 , 晶圓 , 晶片

外資摩根士丹利最新研究報告指出，即將在本週召開法人說明會的晶圓代工龍頭台積電，預計在 2024 年將是業績成長強勁的一年。其中，2024 年營收年增接近 20%，全年毛利率將略低於 53%，並且資本支出將維持 300 億美元，較 2023 年持平的情況下，看好台積電的業績發展，給予「優於大盤」的投資評等，目標價來到每股新台幣 688 元。

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台積電法說前夕，傳 ASML 高層將來台拜訪
作者 |發布日期 2024 年 01 月 08 日 13:30 |
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分類 半導體 , 國際貿易 , 晶圓

晶圓代工龍頭台積電 18 日法說會召開在即，業界傳出，半導體微影設備製造龍頭艾司摩爾（ASML）現任商務長、下一任執行長兼總裁富凱（Christophe Fouquet）近日將率高層來台拜訪台積電與供應商，目的在於討論 EUV（極紫外光）設備供應與發展、下世代機台相關規劃，凸顯雙方在先進製程的未來將持續緊密合作。 繼續閱讀..

英特爾拿下首套 High-NA EUV，威脅台積電龍頭地位？
作者 |發布日期 2024 年 01 月 08 日 7:30 |
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分類 IC 設計 , 公司治理 , 半導體

英特爾 (Intel) 近日宣布，已經接收市場首套具有 0.55 數值孔徑（High-NA）的 ASML 極紫外（EUV）曝光機，將協助其在未來幾年大成更先進的晶片製程技術。與之形成對比的是，台積電當前則視似乎按兵不動，並不急於加入這場下一代曝光技術的競賽。市場分析師預計，台積電可能要到 1.4 奈米 (A14)，或是更晚的 2030 年之後才會採用這項技術。

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2023 年全球光阻劑市場解析
作者 |發布日期 2023 年 12 月 27 日 7:30 |
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分類 半導體 , 晶圓 , 會員專區

2022 年全球經濟呈現較大波動，受地緣政治衝突不斷，宏觀經濟下行壓力增大等影響，消費性電子產品需求出現放緩跡象，半導體產業進入下行週期。持續至今年上半年，宏觀經濟下行壓力仍未改善，受此影響消費性電子需求依舊疲軟，半導體產業呈現去庫存、產線稼動率下行等特徵，今年半導體市場規模預定出現負增長。 繼續閱讀..

Canon：奈米壓印降低先進製程生產成本，拉近與 ASML 差距
作者 |發布日期 2023 年 12 月 26 日 7:10 |
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分類 半導體 , 晶圓 , 晶片

全球曝光機生產大廠之一日本佳能 (Canon)，10 月 13 日宣布推出 FPA-1200NZ2C 奈米壓印 (NIL) 半導體設備後，日前執行長御手洗富士夫表示，新奈米壓印技術為小型半導體商生產先進晶片開闢新道路，不讓先進晶片技術由大型半導體商獨享。

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英特爾採購六套 High-NA EUV 曝光機給 2 奈米製程用
作者 |發布日期 2023 年 12 月 19 日 18:00 |
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分類 半導體 , 晶圓 , 晶片

韓國三星日前與荷蘭半導體設備商 ASML 簽署了價值 1 兆韓圜（約 7.55 億美元）的協議，兩家公司將在韓國投資建造半導體晶片研究工廠，並將在該研究工廠開發新一代 EUV 半導體製造技術。三星電子副董事長兼設備解決方案部門負責人 Kyung Kye-hyun 強調，兩家公司的最新協議將幫助其獲得下一代 High-NA EUV 曝光機。

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