Tag Archives: EUV

2023 年全球光阻劑市場解析
作者 |發布日期 2023 年 12 月 27 日 7:30 |
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分類 半導體 , 晶圓 , 會員專區

2022 年全球經濟呈現較大波動，受地緣政治衝突不斷，宏觀經濟下行壓力增大等影響，消費性電子產品需求出現放緩跡象，半導體產業進入下行週期。持續至今年上半年，宏觀經濟下行壓力仍未改善，受此影響消費性電子需求依舊疲軟，半導體產業呈現去庫存、產線稼動率下行等特徵，今年半導體市場規模預定出現負增長。 繼續閱讀..

Canon：奈米壓印降低先進製程生產成本，拉近與 ASML 差距
作者 |發布日期 2023 年 12 月 26 日 7:10 |
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分類 半導體 , 晶圓 , 晶片

全球曝光機生產大廠之一日本佳能 (Canon)，10 月 13 日宣布推出 FPA-1200NZ2C 奈米壓印 (NIL) 半導體設備後，日前執行長御手洗富士夫表示，新奈米壓印技術為小型半導體商生產先進晶片開闢新道路，不讓先進晶片技術由大型半導體商獨享。

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英特爾採購六套 High-NA EUV 曝光機給 2 奈米製程用
作者 |發布日期 2023 年 12 月 19 日 18:00 |
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分類 半導體 , 晶圓 , 晶片

韓國三星日前與荷蘭半導體設備商 ASML 簽署了價值 1 兆韓圜（約 7.55 億美元）的協議，兩家公司將在韓國投資建造半導體晶片研究工廠，並將在該研究工廠開發新一代 EUV 半導體製造技術。三星電子副董事長兼設備解決方案部門負責人 Kyung Kye-hyun 強調，兩家公司的最新協議將幫助其獲得下一代 High-NA EUV 曝光機。

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ASML 與三星簽署備忘錄，韓國建立研究中心
作者 |發布日期 2023 年 12 月 13 日 7:30 |
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分類 半導體 , 晶圓 , 會員專區

半導體曝光機大廠 ASML 宣布，與韓國三星電子簽署備忘錄，共同投資 1 兆韓圜（約新台幣 230 億元）建立研究中心，並用下一代極紫外（EUV）曝光機研究先進半導體製程技術。ASML 也宣布與 SK 海力士簽署 ESG 備忘錄，雙方在環境、社會和公司治理專案合作。

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IBM、Micron、應材、東京威力科創攜手紐約州，投資百億美元設 High-NA EUV 製程研發中心
作者 |發布日期 2023 年 12 月 13 日 7:00 |
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分類 半導體 , 晶圓 , 晶片

日前，美國紐約州長 Kathy Hochul 宣佈，與包括 IBM、美光、應用材料、東京威力科創等半導體大廠達成協議，預計將投資 100 億美元 （約新台幣 3,100 億元） 在紐約州 Albany NanoTech Complex 興建下一代 High-NA EUV 半導體製程研發中心。

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ASML 台灣啟動菁英獎學金申請計畫，最高實習獎金達 30 萬元
作者 |發布日期 2023 年 10 月 12 日 16:30 |
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分類 人力資源 , 半導體 , 會員專區

半導體微影曝光設備大廠艾司摩爾 (ASML) 宣布，2023 年菁英獎學金計畫 (2023 ASML Elite Scholarship) 申請開始起跑，只要是本國國籍，正在攻讀計畫規定「工程學類」或「商業管理」碩士學位的學生，相關成績符合申請標準，就有 8 位學生有機會接受 ASML Mentor導師學生培訓、EF 英語線上課程以及擔任校園大使深入了解產業知識，有機會獲得最高實習獎金新台幣 30 萬元。

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