日本 Rapidus 目標 2025 年 4 月試產 2 奈米晶片 |
作者
MoneyDJ|發布日期
2023 年 05 月 23 日 11:35 |
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目標將次世代半導體（晶片）國產化、由日本官民合作設立的半導體研發/製造/銷售公司 Rapidus 公布最新的生產計畫，預計將在 2025 年 4 月試產 2 奈米晶片。 繼續閱讀..
美日歐晶片政策比一比，人才時間是最大挑戰 |
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作者
中央社|發布日期
2023 年 05 月 17 日 9:45 |
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來自美國、歐盟、日本的科技產業官員 16 日齊聚比利時一場半導體論壇，分享各自晶片法案的特點與挑戰。美國可謂包山包海，歐盟谷底直追野心最大，日本方向較聚焦，而共同的挑戰就是時間與人才不夠。 繼續閱讀..
半導體埃米時代生產利器，imec 展示最新 High-NA EUV 技術進展 |
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作者
Atkinson|發布日期
2022 年 04 月 27 日 10:40 |
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全球半導體技術研究重鎮的比利時微電子研究中心（imec），日前國際光學工程學會（SPIE）先進曝光微影成形技術會議，展示 High-NA（高數值孔徑）曝光技術的大進展，含顯影與蝕刻製程的開發、新興光阻劑與塗料測試、量測與光罩技術最佳化等。因 imec 與台積電、英特爾等國際大廠密切合作，業界預期先進製程 2025 年後進入埃米（angstorm）時代，High-NA 曝光技術將是關鍵。
不受摩爾定律限制，ASML 開始設計 1 奈米製程曝光設備 |
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作者
Atkinson|發布日期
2020 年 12 月 01 日 6:00 |
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根據外媒報導，日前在日本東京舉行了 ITF（IMEC Technology Forum,. ITF）論壇。在論壇上，與荷蘭商半導體大廠艾司摩爾（ASML）合作研發半導體曝光機的比利時半導體研究機構 IMEC 正式公布了 3 奈米及以下製程的在微縮層面的相關技術細節。根據其所公布的內容來分析，ASML 對於 3 奈米、2 奈米、1.5 奈米、1 奈米，甚至是小於 1 奈米的製程都做了清楚的發展規劃，代表著 ASML 基本上已經能開發 1 奈米製程的曝光設備了。
