2023 年末,曝光機大廠 ASML 向英特爾運交機首套 High-NA EUV 曝光機,型號為 TWINSCAN EXE:5000。業界普遍認為,High-NA EUV 將對先進晶片開發和下代處理器生產發揮關鍵作用。不過最近又有變化,各晶圓代工廠都在減少依賴 High-NA EUV,延後導入時間。特別是英特爾董事發言,讓市場對 High-NA EUV 前景產生更多疑問。
英特爾看淡曝光機對半導體重要性,外資下修 ASML 目標價 |
作者 Atkinson|發布日期 2025 年 07 月 03 日 15:30 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片 |